[實用新型]一種三級磁控濺射鍍膜裝置有效
| 申請號： | 201420826210.1 | 申請日： | 2014-12-22 |
| 公開（公告）號： | CN204369976U | 公開（公告）日： | 2015-06-03 |
| 發明（設計）人： | 陳五奎;雷曉全;柯濤 | 申請（專利權）人： | 深圳市拓日新能源科技股份有限公司;陜西拓日新能源科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 無 | 代理人： | 無 |
| 地址： | 710000 陜西*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 三級 磁控濺射 鍍膜 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種三級磁控濺射鍍膜裝置，包括，箱體(1)以及設置在箱體(1)上的觀察窗(2)，其特征在于，所述箱體(1)由一級鍍膜室(3)、二級鍍膜室(4)和三級鍍膜室(5)組成，各鍍膜室前段和后端以及中間連接段均設置有壓力泵閥(6)。
2.根據權利要求1所述的一種三級磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述一級鍍膜室(3)、二級鍍膜室(4)和三級鍍膜室(5)分別設置有鍍膜傳動軸(7)。
3.根據權利要求1所述的一種三級磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述壓力泵閥(6)有4個。
4.根據權利要求1所述的一種三級磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述觀察窗(2)設置有3個。
5.根據權利要求1或2所述的一種三級磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述一級鍍膜室(3)、二級鍍膜室(4)和三級鍍膜室(5)分別設置有2個鍍膜傳動軸(7)。
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