[實用新型]一種J型陰極磁控濺射靶

有效

• 申請號: 201420824324.2
• 申請日: 2014-12-19
• 公開（公告）號: CN204325484U
• 公開（公告）日: 2015-05-13
• 發明（設計）人: 韓裕鯤
• 申請（專利權）人: 昆山艾諾美航天材料有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種J型陰極磁控濺射靶，特別涉及的是用于航空領域的一種J型陰極磁控濺射靶。

背景技術

目前真空鍍膜所采用的靶材均是平板靶材或圓柱靶材，對于一般的平面鍍膜能夠保證均勻性。但是要對復合曲面的飛機座艙罩的外表面進行大面積鍍膜，平面靶材相對于曲面各點的距離差距較大，無法確保鍍膜的均勻性，進而影響其導電率和透光率。因此需要設計一種形狀符合飛機座艙罩曲面外形的靶材，以此來實現快速、均勻的大面積鍍膜。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種J型陰極磁控濺射靶，實現對復合曲面的飛機座艙罩外表面進行快速、均勻的大面積鍍膜。

為實現上述技術目的，達到上述技術效果，本實用新型通過以下技術方案實現：

一種J型陰極磁控濺射靶，包括旋轉盤、J型基架、靶材、充氣管、輝光放電電極。所述旋轉盤支撐整個靶，可旋轉180°。所述J型基架是濺射靶的主要部分，它的形狀是本實用新型設計的重點，設計為兩個并排結構。所述J型基架的圓弧面用許多片所述靶材覆蓋。所述J型基架內部填充永久磁體。所述J型基架左側端面用螺栓固定兩條所述充氣管，右側端面用螺栓固定兩條所述輝光放電電極。

優選的，所述旋轉盤可旋轉180°，用于對曲面板材全方位鍍膜。

優選的，所述J型基架設計為兩個并排結構，用于濺鍍不同膜層。

優選的，所述靶材是以一片片長方形緊密排列，粘結在所述J型基架的圓弧面，用來提供膜層材質。

優選的，所述充氣管沿所述J型基架左側端面固定在所述J型基架上，用來在真空室中充入工作氣體和保護氣體。

優選的，所述輝光放電電極沿所述J型基架右側端面固定在所述J型基架上，用來連接外電源，產生負高壓。

上述技術方案具有如下有益效果：該J型磁控濺射靶在鍍膜時固定在三維移動靶材支架上，并由其承載著按設定的軌跡運動，分兩次對曲面板材進行鍍膜，并可配合需要鍍兩種不同膜層。采用J型磁控濺射陰極靶，能夠使大面積的復合曲面的飛機座艙罩外表面得到均勻、快速的鍍膜。

上述說明是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技術手段，并可依照說明書的內容予以實施，以下以本實用新型的具體實施方式并配合附圖對本專利進行詳細說明。

附圖說明

圖1是本實用新型J型陰極磁控濺射靶示意圖。

具體實施方式

如圖1所示，本實用新型J型陰極磁控濺射靶，包括旋轉盤1、J型基架2、靶材3、充氣管4、輝光放電電極5。旋轉盤1支撐整個靶，可旋轉180°。J型基架2是濺射靶的主要部分，設計為兩個并排結構。J型基架2的圓弧面用許多片靶材3覆蓋，內部填充永久磁體。J型基架2左側端面用螺栓固定兩條充氣管4，右側端面用螺栓固定兩條輝光放電電極5。

旋轉盤1可旋轉180°，用于對曲面板材全方位鍍膜。

J型基架2設計為兩個并排結構，用于濺鍍不同膜層。

靶材3是以一片片長方形緊密排列，粘結在所述J型基架2的圓弧面，用來提供膜層材質。

充氣管4沿J型基架2左側端面固定，用來在真空室中充入工作氣體和保護氣體。

輝光放電電極5沿J型基架2右側端面固定，用來連接外電源，產生負高壓。

上述實例可在不脫離本實用新型的范圍下加以若干變化，故以上的說明及附圖中所示的結構應視為示例性，而非用以限制本實用新型的申請專利范圍。凡根據本實用新型做出的等效變化或修飾，都涵蓋在本實用新型的保護范圍內。