[實用新型]一種J型陰極磁控濺射靶

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420824324.2
• 申請日: 2014-12-19
• 公開（公告）號: CN204325484U
• 公開（公告）日: 2015-05-13
• 發(fā)明（設計）人: 韓裕鯤
• 申請（專利權）人: 昆山艾諾美航天材料有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種J型陰極磁控濺射靶，其特征在于：包括旋轉(zhuǎn)盤(1)、J型基架(2)、靶材(3)、充氣管(4)、輝光放電電極(5)，所述J型基架(2)固定在所述旋轉(zhuǎn)盤(1)上，所述J型基架(2)圓弧面用許多片所述靶材(3)覆蓋，內(nèi)部填充永久磁體，所述J型基架(2)左側端面用螺栓固定兩條所述充氣管(4)，右側端面用螺栓固定兩條所述輝光放電電極(5)。

2.根據(jù)權利要求1所述的J型陰極磁控濺射靶，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)盤(1)可旋轉(zhuǎn)180°。

3.根據(jù)權利要求1所述的J型陰極磁控濺射靶，其特征在于：所述J型基架(2)設計為兩個并排結構。

4.根據(jù)權利要求3所述的J型陰極磁控濺射靶，其特征在于：所述靶材(3)是以一片片長方形緊密排列，粘結在所述J型基架(2)的圓弧面。

5.根據(jù)權利要求3所述的J型陰極磁控濺射靶，其特征在于：所述充氣管(4)沿所述J型基架(2)左側端面固定。

6.根據(jù)權利要求3所述的J型陰極磁控濺射靶，其特征在于：所述輝光放電電極(5)沿所述J型基架(2)右側端面固定。