[實用新型]一種薩格納克干涉儀兩臂角度誤差測量系統

有效

• 申請號: 201420820436.0
• 申請日: 2014-12-20
• 公開（公告）號: CN204514568U
• 公開（公告）日: 2015-07-29
• 發明（設計）人: 丑小全;焦巧利;李華
• 申請（專利權）人: 中國科學院西安光學精密機械研究所
• 主分類號: G01M11/00
• 分類號: G01M11/00
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 王少文

技術領域

本實用新型屬于光學測試領域，具體涉及一種薩格納克干涉儀兩臂角度誤差測量系統。

背景技術

由于兩臂角度誤差直接影響薩格納克(以下簡稱Sagnac)干涉儀干涉條紋間距，從而影響干涉光譜儀的光譜分辨率。測量角度誤差可以在干涉儀裝調過程中控制裝調誤差，也可以在最后光譜數據處理中加以修正此誤差。

目前采用Sagnac干涉儀兩臂角度之間要求的角度為45°，但是由于加工時的誤差，45°的角度值在加工過程中很難保證，因此會影響干涉儀的使用；

現有的測量Sagnac干涉儀兩臂角度誤差的系統是：

使用兩臺經緯儀相互瞄準呈90°設置，其中第一經緯儀用于發射目標光束，第二經緯儀用于接收目標光束；在測量時，第一經緯儀的出射目標光束經Sagnac干涉儀反射后被第二經緯儀接收，此時，若第二經緯儀讀出的角度值為0°，則證明Sagnac干涉儀兩臂角度誤差值為0；若第二經緯儀讀出的角度值為δ°，由于第一經緯儀的出射光與第二經緯儀的入射光之間的夾角為Sagnac干涉儀兩臂角度的兩倍，則Sagnac干涉儀兩臂角度的誤差值為δ/2°。

但是上述方法引入了兩個經緯儀瞄準建立90°時會出現誤差，測量時會把兩個經緯儀瞄準建立90°度時產生的誤差帶入最終的測量中，測量的精準度不高。

實用新型內容

為了解決背景技術中的問題，本實用新型提供了一種測量精度高、結構簡單、易于實現的Sagnac干涉儀兩臂角度誤差測量系統。

本實用新型的具體技術方案是：

一種Sagnac干涉儀兩臂角度誤差測量系統，其特征在于：包括第一經緯儀、第二經緯儀、旋轉平臺以及自準直測角光管；

所述第一經緯儀發出的目標光束入射至Sagnac干涉儀經Sagnac干涉儀兩臂反射后出射至第二經緯儀的像面上；

所述自準直測角光管面向第二經緯儀設置，使得進入第二經緯儀的目標光束能夠成像在自準直測角光管的像面上；

所述旋轉平臺的旋轉軸心位于第一經緯儀光軸與Sagnac干涉儀中分光面的交點上。

上述測量系統中的自準直測角光管由經緯儀代替。

本實用新型的優點在于：

1、本實用新型通過兩次獲取目標光束的位置，通過兩次位置的差值確定Sagnac干涉儀兩臂角度誤差，有效避免了現有技術兩臺經緯儀放置瞄準時出現的誤差，并且將兩臂角度誤差值放大了4倍，提高了測量的精準度。

2、本實用新型只在原有測量系統的基礎上，多增加了一臺經緯儀或者自準直測角光管，結構簡單，易于實現。

3、本實用新型采用了旋轉平臺使得Sagnac干涉儀的旋轉角度易于控制，保證了系統進行測量時的穩定性。

附圖說明

圖1為現有測量系統的結構示意圖；

圖2和圖3為本實用新型的測量系統的結構示意圖；

圖4為自準直測角光管靶面中心與目標光束第一位置、第二位置的成像示意圖。

1-第一經緯儀、2-第二經緯儀、3-Sagnac干涉儀、4-自準直測角光管。

具體實施方式

為了克服現有技術對Sagnac干涉儀的兩臂角度誤差測量時出現的測量精度不高的問題，本實用新型提出了一種Sagnac干涉儀兩臂?角度誤差測量系統。

下面結合附圖1和附圖2對本實用新型的系統進行描述：

該測量系統包括第一經緯儀1、第二經緯儀2以及自準直測角光管4；

第一經緯儀發出的目標光束入射至Sagnac干涉儀經Sagnac干涉儀兩臂反射后出射至第二經緯儀的像面上；

自準直測角光管面向第二經緯儀設置，使得進入第二經緯儀的目標光束能夠成像在自準直測角光管的像面上；

旋轉平臺的旋轉軸心位于第一經緯儀光軸與Sagnac干涉儀中分光面的交點上。

采用上述系統，第一經緯儀和第二經緯儀的放置位置不需要十分精確，(本案為90°)，只需要第二經緯儀能夠將目標光束接收到像面上即可，避免了測量誤差。

特別需要說明的是：該測量系統中自準直測角光管4可以用用于光束成像的儀器進行代替，例如：經緯儀。

根據上述系統，現將利用該系統的方法進行描述：

步驟1)獲取目標光束的第一位置；

步驟1.1)將Sagnac干涉儀安裝在旋轉平臺上；

步驟1.2)打開第一經緯儀、第二經緯儀以及自準直測角光管，第一經緯儀發出目標光束，目標光束經Sagnac干涉儀兩臂反射后被第二經緯儀接收；