[實用新型]一種薩格納克干涉儀兩臂角度誤差測量系統有效
| 申請號： | 201420820436.0 | 申請日： | 2014-12-20 |
| 公開（公告）號： | CN204514568U | 公開（公告）日： | 2015-07-29 |
| 發明（設計）人： | 丑小全;焦巧利;李華 | 申請（專利權）人： | 中國科學院西安光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | G01M11/00 | 分類號： | G01M11/00 |
| 代理公司： | 西安智邦專利商標代理有限公司 61211 | 代理人： | 王少文 |
| 地址： | 710119 陜西省西*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 薩格納克 干涉儀 角度 誤差 測量 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種薩格納克干涉儀兩臂角度誤差測量系統，其特征在于：包括第一經緯儀、第二經緯儀、旋轉平臺以及自準直測角光管；
所述第一經緯儀發出的目標光束入射至薩格納克干涉儀經薩格納克干涉儀兩臂反射后出射至第二經緯儀的像面上；
所述自準直測角光管面向第二經緯儀設置，使得進入第二經緯儀的目標光束能夠成像在自準直測角光管的像面上；
所述旋轉平臺的旋轉軸心位于第一經緯儀光軸與薩格納克干涉儀中分光面的交點上。
2.根據權利要求1所述的薩格納克干涉儀兩臂角度誤差測量系統，其特征在于：所述測量系統中的自準直測角光管由經緯儀代替。
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