[實用新型]一種用于靶材噴涂的真空罐體

有效

• 申請號: 201420816656.6
• 申請日: 2014-12-22
• 公開（公告）號: CN204325472U
• 公開（公告）日: 2015-05-13
• 發明（設計）人: 王志強;張斐;羅建冬;羅文富
• 申請（專利權）人: 廈門映日新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C4/12
• 分類號: C23C4/12
• 代理公司: 廈門市精誠新創知識產權代理有限公司 35218
• 代理人: 方惠春

技術領域

本實用新型涉及一種用于靶材噴涂的真空罐體，按國際專利分類表(IPC)劃分屬于靶材噴涂技術領域。

背景技術

靶材是在濺射沉積技術中用做陰極的材料。該陰極材料在帶正電荷的陽離子撞擊下以分子、原子或離子的形式脫離陰極而在陽極表面重新沉積。通俗的解釋為靶材是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。而靶材在制造過程中，其必須在管狀金屬基材的基礎上進行等離子噴涂，進行等離子噴涂環境是決定靶材質量與品質的重要因素之一。

而現有的靶材噴涂最好采用在真空低壓環境下噴涂，這樣就需要能容置靶材及噴涂裝置的真空罐體，而現有的真空罐體均沒有設置有安全保護裝置，令加工過程中的安全性降低，同時當真空罐體內氣壓過大時，罐體門被頂開，生產停止，同時存在生產風險。

由此，本發明人考慮對現有的靶材噴涂真空罐體結構進行改進，本案由此產生。

實用新型內容

?針對現有技術的不足，本實用新型提供了一種用于靶材噴涂的真空罐體，器在靶材噴涂的真空罐體的進出口上設置安全閥，從而解決罐體內氣壓過大存在的風險，提高工作效率。

為達到上述目的，本實用新型是通過以下技術方案實現的：

一種用于靶材噴涂的真空罐體，所述真空罐體包括罐體及多個安全閥，所述罐體兩端分別具有靶材進、出口，而所述靶材進、出口位置均與密封門配合，從而形成密封罐體；而所述多個安全閥分別安裝在靶材進、出口上端，從而形成對罐體內低壓狀態噴涂的保護結構。

進一步，所述安全閥的數量為兩個，且每個安全閥為低壓控制安全閥并能將真空罐體內的壓力控制在-0.03?mp到-0.04mp。

進一步，所述每個安全閥為一公斤，且公稱直徑200mm的控制閥。

進一步，所述罐體為中國專利授權公告號為CN203373415U中所公開的真空噴涂罐結構。

與現有技術相比較，本實用新型的優點：

本實用新型在靶材噴涂的真空罐體上設置安全閥，從而確保生產的安全；另一方面能保證靶材只預訂低壓真空環境內進行噴涂，從而確保靶材品質，同時解決罐體內氣壓過大存在的風險，提高工作效率。

附圖說明

圖1是本實用新型在實施例中結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型作進一步說明：

實施例：請參閱圖1所示，一種用于靶材噴涂的真空罐體，所述真空罐體包括罐體1及兩個安全閥2，所述罐體1兩端分別具有靶材進、出口，而所述靶材進、出口位置均與密封門配合，從而形成密封罐體；而所述兩個安全閥2分別安裝在靶材進、出口上端，從而形成對罐體內低壓狀態噴涂的保護結構。

請參閱圖1所示，前述每個安全閥2為低壓控制安全閥并能將真空罐體內的壓力控制在-0.03?mp到-0.04mp，所述每個安全閥為一公斤，且公稱直徑200mm的控制閥。

請參閱圖1所示，前述罐體1為內部呈真空狀態的雙層式罐體及罐體兩端的密封端蓋，該雙層式罐體包括內層罐體及外層罐體，所述外層罐體包裹與內層罐體外側，并在內層罐體及外層罐體之間形成水冷空腔，所述水冷空腔內部設置有罐體水冷結構。

前述水冷結構為多條設置于水冷空腔內的循環水冷管，所述循環水冷管包覆于內層罐體上，且與內層罐體配合形成高效水冷結構。

前述雙層式罐體上設置多個觀察窗，所述多個觀察窗呈一字型排列于罐體之上，每個觀察窗上設置有防塵或刮塵清潔裝置，前述觀察窗的數量為?7?個，每個觀察窗直徑不小于?100mm，每個觀察窗中心距地面高度為?1400mm，所述7個觀察窗中位于中央位置的觀察窗的直徑為300mm，且該觀察窗為法蘭觀察窗，所述法蘭觀察窗為設置有法蘭盤的觀察窗。

前述雙層式罐體上設置有抽氣口及排氣口，所述排氣口數量為?3?個，且每個抽氣口均配置法蘭蓋。所述雙層式罐體為圓形罐體。

前述密封端蓋上設置有端蓋觀察窗，該端蓋觀察窗為法蘭觀察窗，所述密封端蓋為配置有自鎖裝置的罐體端蓋。（針對罐體的說明在中國專利授權公告號為CN203373415U的說明書附圖中有所體現）。

以上所記載，僅為利用本創作技術內容的實施例，任何熟悉本項技藝者運用本創作所做的修飾、變化，皆屬本創作主張的專利范圍，而不限于實施例所揭示者。