[實用新型]一種清洗黑硅電池片的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420815906.4 | 申請日： | 2014-12-19 |
| 公開（公告）號： | CN204315535U | 公開（公告）日： | 2015-05-06 |
| 發(fā)明（設計）人： | 羅西佳;蔣仙;吳而義;李華;范瓊;劉林華 | 申請（專利權）人： | 無錫德鑫太陽能電力有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 214028 江蘇省無錫*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 清洗 電池 裝置 | ||
1.一種清洗黑硅電池片的裝置，其特征在于：包括金屬工作槽（1）、坩堝（2）超聲波發(fā)生器（5），所述坩堝（2）位于長方體形金屬工作槽（1）內(nèi)部；所述金屬工作槽（1）底部設有多個超聲波發(fā)生器（5）；所述金屬工作槽（1）與坩堝（2）之間設有間隙。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種清洗黑硅電池片的裝置，其特征在于：所述超聲波發(fā)生器（5）至少4個以上。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種清洗黑硅電池片的裝置，其特征在于：所述坩堝（2）中盛放硝酸溶液用于清洗黑硅電池片（4）。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種清洗黑硅電池片的裝置，其特征在于：所述坩堝（2）內(nèi)部可放置多個硅片承載盒（3）。
5.根據(jù)權利要求4所述的一種清洗黑硅電池片的裝置，其特征在于：所述坩堝（2）與硅片承載盒（3）之間設有間隙。
6.根據(jù)權利要求4所述的一種清洗黑硅電池片的裝置，其特征在于：所述硅片承載盒（3）完全浸沒于硝酸清洗液中。
7.根據(jù)權利要求4所述的一種清洗黑硅電池片的裝置，其特征在于：所述硅片承載盒（3）至少有4個以上。
8.根據(jù)權利要求1所述的一種清洗黑硅電池片的裝置，其特征在于：所述金屬工作槽（1）中盛放水作為超聲波傳導介質(zhì)。
9.根據(jù)權利要求1所述的一種清洗黑硅電池片的裝置，其特征在于：所述金屬工作槽（1）的外殼為不銹鋼外殼。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
