[實用新型]PECVD石墨舟用石墨釘有效
| 申請號： | 201420788596.1 | 申請日： | 2014-12-12 |
| 公開（公告）號： | CN204417588U | 公開（公告）日： | 2015-06-24 |
| 發明（設計）人： | 魯科;喬琦;陸紅艷;黃海濤;陳如龍 | 申請（專利權）人： | 無錫尚德太陽能電力有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/458 | 分類號： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 曹祖良 |
| 地址： | 214028 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | pecvd 石墨 | ||
【權利要求書】：
1.一種PECVD石墨舟用石墨釘，包括基體(31)，基體(31)上部具有一個外側面往下內收縮的菱形體(32)；菱形體(32)內收縮部位用于卡住硅片；其特征在于：
基體(31)的前后側面為豎立平面，而基體(31)的左右側具有弧形側面；
或者，石墨釘基體(31)的形狀為橢圓體型或長方體型。
2.如權利要求1所述的PECVD石墨舟用石墨釘，其特征在于：
基體(31)的前后側面為平行平面。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
