[實用新型]多源蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201420772666.4
• 申請日: 2014-12-10
• 公開（公告）號: CN204401097U
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發明（設計）人: 陳慶豐;陳敬堯
• 申請（專利權）人: 陳慶豐;陳敬堯
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04
• 代理公司: 廣州市紅荔專利代理有限公司 44214
• 代理人: 王賢義

技術領域

????本實用新型涉及一種多源蒸鍍裝置。

背景技術

????蒸鍍法是一種在半導體或太陽能等產業中已經被廣泛使用的鍍膜技術，?如圖1所示，一般常見的蒸鍍裝置通常包含一個真空腔體91，以及一個安裝于所述真空腔體91內且可對一膜料93加熱的加熱件92。

????在使用時，先將一個欲進行鍍膜的工件94放入所述真空腔體91內，接著令所述真空腔體91內抽真空，然后通過所述加熱件92將所述膜料93加熱達到熔化，?使所述膜料93蒸發產生蒸氣原子，并通過蒸氣原子沉積凝結在所述工件94之一表面941而生成膜層，便完成鍍膜作業。

然而所述蒸鍍裝置在實際應用上，由于所述膜料93加熱蒸發時，其蒸氣原子的動作路徑有一定的范圍，如圖1所示地，越靠近所述膜料93則可蒸鍍之面積越小，?越遠離所述膜料93則可蒸鍍之面積越大。換句話說，當所述工件94的尺寸越大時，所述工件94的表面941之面積也越大，因此所述2工件94就必須要相當遠離所述膜料93，才能使所述表面941完全蒸鍍。不過，為了能讓工件94有足夠的空間與所述膜料93間隔，在拉長所述工件94與所述膜料93之間的距離的同時，所述真空腔體91的體積也需要隨著變大改變。

????如此一來，將會增加所述真空腔體91抽真空的時間，?進而降低工作效率、生產效率與使用方便性，若為了增加抽真空的速度而采用抽氣速率較高的泵浦，又不可避免地會增加設備成本。

實用新型內容

????本實用新型所要解決的技術問題是克服現有技術的不足，提供一種可在近距離處均勻鍍膜，并能維持較佳的制造質量、工作效率與生產效率且方便使用的多源蒸鍍裝置。

????本實用新型所采用的技術方案是：本實用新型多源蒸鍍裝置可在一個工件的一個加工面上蒸鍍膜層，所述加工面包括第一面部、第二面部與第三面部，而所述多源蒸鍍裝置包含：

????一中空腔體，包括一個可被抽真空且可供所述工件容置的容置空間；

????一蒸鍍源機構，包括一個位于所述容置空間內且可被加熱而朝所述工件的加工面上蒸鍍膜層的膜料單元，所述膜料單元具有一個可在所述第一面部與所述第二面部上蒸鍍膜層的第一膜料以及一個可在所述第二面部與所述第三面部上蒸鍍膜層的第二膜料；及

一遮擋機構，包括一個可遮擋所述第一膜料與所述第?二膜料的其中一個蒸鍍膜層于所述第二面部上的遮擋件。

????進一步的，所述遮擋機構還包括一個與所述中空腔體結合安裝而可驅動所述遮擋件繞一軸線旋轉的驅動單元。

????進一步的，所述遮擋機構的驅動單元具有一個與所述中空腔體結合安裝的驅動件以及一個連接于所述驅動件與所述遮擋件之間的傳動件，?所述傳動件可被所述驅動件驅動而繞所述軸線轉動，進而帶動所述遮擋件旋轉。

????進一步的，所述蒸鍍源機構還包括一個與所述中空腔體結合安裝的加熱單元，所述加熱單元具有數個安裝于所述容置空間內而分別用于加熱所述第一膜料與所述第二膜料的加熱座?。

????進一步的，每一個所述加熱座皆具有一個電子槍，?所述電子槍分別可對所述第一膜料與所述第二膜料轟擊電子。

????進一步的，所述中空腔體內設置有一個安裝于所述容置空間內而用于承載所述工件的承載單元。

????進一步的，所述中空腔體還設置有數個安裝于所述容置空間內的離子槍，?所述離子槍分別可對所述工件的加工面轟擊離子。

????本實用新型的有益效果是：在所述中空腔體內設置所述第一膜料與所述第二膜料的多源蒸鍍結構，使得所述多源蒸鍍裝置可應用于較大尺寸的工件，?并可在近距離處均勻鍍膜，且所述容置空間的容積不需增大，?故不會增長抽真空的時間而能維持較佳的工作效率與生產效率，并方便使用。此外，所述遮擋機構的遮擋件可遮擋所述第一膜料與所述第二膜料的其中一個蒸鍍膜層于所述第二面部上，前述嶄新的設計使所述加工面的膜層的厚度均勻，因而能維持較佳的制造質量。

附圖說明

????圖1是現有技術的局部剖視圖；

????圖2是本實用新型前視剖視示意圖；

????圖3是本實用新型側視剖視示意圖。

具體實施方式