[實用新型]多源蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201420772666.4
• 申請日: 2014-12-10
• 公開（公告）號: CN204401097U
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發明（設計）人: 陳慶豐;陳敬堯
• 申請（專利權）人: 陳慶豐;陳敬堯
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04
• 代理公司: 廣州市紅荔專利代理有限公司 44214
• 代理人: 王賢義

1.一種多源蒸鍍裝置，可在一個工件的一個加工面上蒸鍍膜層，所述加工面包括第一面部、第二面部與第三面部，而所述多源蒸鍍裝置包含：

????一中空腔體，包括一個可被抽真空且可供所述工件容置的容置空間；

????一蒸鍍源機構，包括一個位于所述容置空間內且可被加熱而朝所述工件的加工面上蒸鍍膜層的膜料單元，所述膜料單元具有一個可在所述第一面部與所述第二面部上蒸鍍膜層的第一膜料以及一個可在所述第二面部與所述第三面部上蒸鍍膜層的第二膜料；及

一遮擋機構，包括一個可遮擋所述第一膜料與所述第?二膜料的其中一個蒸鍍膜層于所述第二面部上的遮擋件。

2.根據權利要求1所述的多源蒸鍍裝置，其特征在于：所述遮擋機構還包括一個與所述中空腔體結合安裝而可驅動所述遮擋件繞一軸線旋轉的驅動單元。

3.根據權利要求2所述的多源蒸鍍裝置，其特征在于：所述遮擋機構的驅動單元具有一個與所述中空腔體結合安裝的驅動件以及一個連接于所述驅動件與所述遮擋件之間的傳動件，?所述傳動件可被所述驅動件驅動而繞所述軸線轉動，進而帶動所述遮擋件旋轉。

4.根據權利要求1所述的多源蒸鍍裝置，其特征在于：所述蒸鍍源機構還包括一個與所述中空腔體結合安裝的加熱單元，所述加熱單元具有數個安裝于所述容置空間內而分別用于加熱所述第一膜料與所述第二膜料的加熱座?。

5.根據權利要求4所述的多源蒸鍍裝置，其特征在于：每一個所述加熱座皆具有一個電子槍，?所述電子槍分別可對所述第一膜料與所述第二膜料轟擊電子。

6.根據權利要求1所述的多源蒸鍍裝置，其特征在于：所述中空腔體內設置有一個安裝于所述容置空間內而用于承載所述工件的承載單元。

7.根據權利要求1所述的多源蒸鍍裝置，其特征在于：所述中空腔體還設置有數個安裝于所述容置空間內的離子槍，?所述離子槍分別可對所述工件的加工面轟擊離子。