[實用新型]半導(dǎo)體晶圓制造顯影預(yù)對準(zhǔn)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420766748.8
• 申請日: 2014-12-08
• 公開（公告）號: CN204391074U
• 公開（公告）日: 2015-06-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 施建根
• 申請（專利權(quán)）人: 南通富士通微電子股份有限公司
• 主分類號: H01L21/68
• 分類號: H01L21/68;G03F9/00
• 代理公司: 北京志霖恒遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11435
• 代理人: 孟阿妮;郭棟梁

1.一種半導(dǎo)體晶圓制造顯影預(yù)對準(zhǔn)裝置，包括軸線豎直設(shè)置的真空旋轉(zhuǎn)吸盤，所述真空旋轉(zhuǎn)吸盤的頂部具有真空吸附平面，用以置放半導(dǎo)體晶圓，其特征在于，所述真空旋轉(zhuǎn)吸盤的上方沿水平方向滑動設(shè)置有邊緣曝光裝置，所述邊緣曝光裝置包括具有通孔的可調(diào)節(jié)擋板和紫外線發(fā)光裝置，所述紫外線發(fā)光裝置位于所述可調(diào)節(jié)擋板的正上方，所述紫外線發(fā)光裝置用于發(fā)出紫外線并通過所述通孔向所述真空旋轉(zhuǎn)吸盤一側(cè)照射。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體晶圓制造顯影預(yù)對準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述邊緣曝光裝置的滑動方向指向所述軸線。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體晶圓制造顯影預(yù)對準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述邊緣曝光裝置還包含可以使邊緣曝光裝置水平移動的曝光裝置移動部件。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的半導(dǎo)體晶圓制造顯影預(yù)對準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述紫外線發(fā)光裝置包含汞燈，所述汞燈的光線出射方向上設(shè)置有凸透鏡。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的半導(dǎo)體晶圓制造顯影預(yù)對準(zhǔn)裝置，其特征在于，還包含對中光電裝置，所述對中光電裝置包括光電感應(yīng)裝置和機(jī)械傳動裝置,所述對中光電裝置位于半導(dǎo)體晶圓的邊緣，用以檢測半導(dǎo)體晶圓圓心是否位于所述真空旋轉(zhuǎn)吸盤的軸線上，所述機(jī)械傳動裝置位于半導(dǎo)體晶圓的下方，用以移動半導(dǎo)體晶圓在真空吸附平面上的位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體晶圓制造顯影預(yù)對準(zhǔn)裝置，其特征在于，所述光電感應(yīng)裝置包括傳感器支架，所述傳感器支架上固定連接有兩個對射傳感器，兩所述對射傳感器分置于所述半導(dǎo)體晶圓的上下兩側(cè)。