[實用新型]一種新型圓柱直流磁控濺射靶

有效

• 申請號: 201420747158.0
• 申請日: 2014-12-03
• 公開（公告）號: CN204281850U
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發明（設計）人: 郭濤;蔡云鋒;龍騰;楊東恒
• 申請（專利權）人: 深圳市萊恩頓納米技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 深圳眾鼎專利商標代理事務所(普通合伙) 44325
• 代理人: 朱業剛;譚果林

技術領域

本實用新型涉及制備薄膜的磁控濺射技術領域，尤其是涉及一種新型圓柱直流磁控濺射靶。

背景技術

所謂磁控濺射，就是除在靶上施加一個電場外(?電力線垂直于靶表面)，再造一個磁場，要求平行于靶表面的磁感應強度分量在30?～?50?毫特斯拉，在這種條件下形成的輝光放電，被磁場約束在靠近靶面的等離子體區域內，電子受洛侖茲力的影響，作擺線和螺旋線狀的復合運動，路徑大大延長，放電的等離子體密度大大提高，隨之正離子的數量也大大增加，形成一個等離子體區域，因而，濺射產量加大，提高了鍍膜的生產效率。

目前現有的磁控濺射圓柱靶，安裝結構復雜，靶材利用率低，且靶材上與每個環形永磁鐵磁場強度最強的區域形成刻蝕的環形溝道，濺射不均勻，從而造成膜層不均勻；在生產過程中，普遍存在靶管兩端刻蝕速度比中間快，即不能同速率消耗靶材，導致靶材利用率低，使靶材的利用率一般在30%?左右，造成了靶材的嚴重浪費，利用率偏低。

發明內容

本實用新型目的是克服現有技術的不足，提供一種濺射均勻，靶材利用率高的新型圓柱直流磁控濺射靶。

為解決上述技術問題，本實用新型所采用的技術方案是：一種新型圓柱直流磁控濺射靶，包括靶帽、靶體、靶座、靶座法蘭、傳動裝置、絕緣裝置、減速電機；其中靶帽設置在靶體頂端，該靶體另一端與靶座連接；所述靶座內部設有傳動裝置，靶座外圓周面上設有靶座法蘭；所述靶座與靶座法蘭之間設有絕緣裝置，其中靶座法蘭通過立柱與電機安裝架連接，該電機安裝架上設有減速電機。

作為優選，所述靶體，包括靶心、靶心安裝桿、磁鐵、靶材，其中靶心套置在靶心安裝桿上，靶材套置在靶心外，且靶材與靶心之間設有空隙；所述靶心外圓周面上沿軸向設有多條凹槽，每條凹槽內設有若干條形磁鐵。

作為優選，所述靶心頂端設有擋圈，該靶心末端設有定位環，其中條形磁鐵設置在擋圈和定位環之間。

作為優選，所述靶帽，包括端蓋、銅套、端蓋螺母、密封圈；其中銅套套置在靶心安裝桿的頂端，端蓋設置在靶材頂端，該端蓋與靶材頂端之間設有密封圈，其中端蓋螺母用于擰緊并固定端蓋。

作為優選，所述靶座前端與靶材末端連接，該靶材與靶座之間設有密封圈；所述靶座末端設有靶座蓋，該靶座蓋與靶座通過螺釘緊固。

作為優選，所述傳動裝置，包括傳動軸、軸承、軸承壓緊圈、聯軸器、油封、油封擋圈；其中傳動軸末端通過聯軸器與減速電機的輸出軸連接，該傳動軸前端套置在靶心安裝桿末端，并通過固定銷固定；所述傳動軸與軸承配合，該傳動軸上設有油封和油封擋圈，其中油封緊貼軸承前端，該軸承末端設有軸承壓緊圈，該軸承壓緊圈緊貼靶座蓋內側。

作為優選，所述絕緣裝置，包括第第一絕緣套、第二絕緣套、第三絕緣套、第一密封圈、第二密封圈和絕緣套壓緊環。

作為優選，所述靶座法蘭通過圓螺母固定在在靶座外圓周面上，?其中圓螺母與靶座法蘭之間依次設有第一絕緣套、絕緣套壓緊環、第二絕緣套、第三絕緣套。

作為優選，所述靶座法蘭與靶座之間設有第三絕緣套，該第三絕緣套與靶座之間設有第一密封圈，第三絕緣套與靶座法蘭之間設有第二密封圈。

本實用新型具有成膜速率高、基片溫度低、膜的粘附性好、膜的致密度高、強度和耐久性好等優點。通過在靶座與靶座法蘭之間設置絕緣裝置，可有效免因靶座在經歷鍍膜過程中長時間的加熱而后冷卻的循環后發生局部變形，進而避免靶座與靶材發生短路；同時通過使用減速電機降低靶材兩端濺射速率，解決靶材兩端濺射后出現凹槽的缺陷，且磁場強度更均勻，不易在靶材上出現刻蝕的環形溝道，提高靶材利用率，也使濺射形成的膜層更為均勻。

附圖說明

圖1是本實用新型結構示意圖。

具體實施方式

下面通過實施例，并結合附圖，對本實用新型的技術方案作進一步具體說明。

圖1是本實用新型結構示意圖。由圖1可知，一種新型圓柱直流磁控濺射靶，主要由靶帽、靶體、靶座34、靶座法蘭16、傳動裝置、絕緣裝置、減速電機25等組成；其中靶帽設置在靶體頂端，該靶體另一端與靶座34連接，靶座34內部設有傳動裝置，靶座34外圓周面上設有靶座法蘭16。靶座34與靶座法蘭16之間設有絕緣裝置，其中靶座法蘭16通過立柱31與電機安裝架27連接，該電機安裝架27上設有減速電機25。