[實用新型]晶圓搬運機械手有效
| 申請號: | 201420744635.8 | 申請日: | 2014-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN204271064U | 公開(公告)日: | 2015-04-15 |
| 發明(設計)人: | 韓良華 | 申請(專利權)人: | 上海技美電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/687 | 分類號: | H01L21/687;H01L21/683;B25J9/08;B25J15/06 |
| 代理公司: | 上海脫穎律師事務所 31259 | 代理人: | 李強 |
| 地址: | 201100 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 搬運 機械手 | ||
1.晶圓搬運機械手,其特征在于,包括基板;所述基板上設有風道,所述風道設置有進風口和出風口;所述進風口與所述出風口通過所述風道連通;氣體自所述進風口吹入所述風道后從所述出風口吹出;所述基板上設有多個沉孔,多個所述沉孔沿圓周方向分布;所述出風口開設于所述沉孔的側壁上;每個沉孔的側壁上設置至少一個所述出風口。
2.根據權利要求1所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,每個沉孔的側壁上設置的所述出風口數目為多個,所述多個出風口沿圓周方向分布。
3.根據權利要求1所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述沉孔為圓形。
4.根據權利要求1、2或3所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述風道包括出風孔;所述出風孔自所述出風口向所述基板內延伸;同一個沉孔內的出風孔的延伸方向與該沉孔的徑向夾角α均大于等于90°、小于180°,或同一個沉孔內的出風孔的延伸方向與該沉孔的徑向夾角α均大于0°、小于等于90°。
5.根據權利要求4所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述沉孔的個數為偶數;沿圓周方向相鄰的兩個沉孔,其中一個沉孔內的出風孔的延伸方向與該沉孔的徑向夾角α均大于等于90°、小于180°,另一個沉孔內出風孔的延伸方向與該沉孔的徑向夾角α均大于0°、小于等于90°。
6.根據權利要求1、2或3所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述基板包括基板本體和蓋板;所述蓋板與所述基板本體連接;所述基板本體上設置有凹槽;所述蓋板將所述凹槽封住形成所述風道。
7.根據權利要求6所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述沉孔設置于所述基板本體正表面,并自所述基板本體正表面向所述基板本體后表面延伸;所述凹槽設置于所述基板本體的后表面,并自所述基板本體后表面向所述基板本體正表面延伸;所述蓋板安裝于所述基板本體后表面上。
8.根據權利要求1所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,還包括襯環,所述襯環側壁設置有多個第一通孔;所述多個第一通孔沿圓周方向分布;所述襯環設置于所述沉孔內;所述第一通孔與所述出風口連通;所述風道內的風經所述出風口、所述第一通孔吹入所述沉孔內。
9.根據權利要求8所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,同一個襯環上的第一通孔的延伸方向與該襯環的徑向夾角β均大于等于90°、小于180°,或同一個襯環上的第一通孔的延伸方向與該襯環的徑向夾角β均大于0°、小于等于90°。
10.根據權利要求9所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述襯環的個數為偶數;沿圓周方向相鄰的兩個襯環,其中一個襯環上的第一通孔的延伸方向與該襯環的徑向夾角β均大于等于90°、小于180°,另一個襯環上的第一通孔的延伸方向與該襯環的徑向夾角β均大于0°、小于等于90°。
11.根據權利要求8所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述第一通孔沿基板厚度方向的截面呈圓形。
12.根據權利要求1所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述基板上設有第二通孔;所述多個沉孔圍繞所述第二通孔設置。
13.根據權利要求1所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述基板上還設有至少一個凸塊;所述凸塊凸出所述基板的表面。
14.根據權利要求13所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述凸塊設置于所述沉孔內;所述凸塊與所述沉孔側壁具有間隙。
15.根據權利要求1所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,還包括檢測裝置;所述檢測裝置用于檢測所述基板是否吸住晶圓。
16.根據權利要求15所述的晶圓搬運機械手,其特征在于,所述檢測裝置為光電檢測器。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





