[實用新型]光刻機(jī)及光刻機(jī)用上版夾具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420726857.7 | 申請日： | 2014-11-27 |
| 公開（公告）號： | CN204215146U | 公開（公告）日： | 2015-03-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 杜武兵;林偉;孫多衛(wèi) | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市路維光電股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 深圳市維邦知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 44269 | 代理人： | 黃莉 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市南*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光刻 用上 夾具 | ||
1.?一種光刻機(jī)用上版夾具，用于使放置于曝光平臺上的鉻版中心與對應(yīng)的曝光圖形中心對齊，其特征在于，所述上版夾具包括將鉻版在第一軸向上定位的第一軸向定位條，與第一軸向定位條一體成型的、將鉻版在第二軸向上定位的第二軸向定位條，且第一軸向定位條、第二軸向定位條的外側(cè)緣分別抵于設(shè)于曝光平臺上的第一軸向定位釘、第二軸向定位釘，內(nèi)側(cè)緣分別抵于鉻版的第一邊緣和第二邊緣。
2.?如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)用上版夾具，其特征在于，第一軸向定位條、第二軸向定位條的內(nèi)側(cè)緣分別沿垂直于所在的軸向方向延伸形成抵頂塊，所述抵頂塊用于抵頂所述鉻版。
3.?如權(quán)利要求2所述的光刻機(jī)用上版夾具，其特征在于，所述抵頂塊呈半圓形、橢圓形或方塊形。
4.?如權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)用上版夾具，其特征在于，所述上版夾具呈L形。
5.?一種光刻機(jī)，所述光刻機(jī)的曝光平臺上均勻設(shè)置多個呈點陣狀排列的吸氣孔，其特征在于，所述光刻機(jī)的曝光平臺上沿第一軸向方向和第二軸向的吸氣孔中分別設(shè)有第一軸向定位釘和第二軸向定位釘，所述光刻機(jī)包括如權(quán)利要求1至4中任一項所述的光刻機(jī)用上版夾具。
6.?如權(quán)利要求5所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述第一軸向定位釘和第二軸向定位釘分別設(shè)于曝光平臺的邊緣位置。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
