[實(shí)用新型]一種含銅離子蝕刻液循環(huán)回收處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420725934.7
• 申請(qǐng)日: 2014-11-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN204265854U
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-04-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔡衛(wèi)宜;譚兆基;黃家力;姚衛(wèi)全
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 清遠(yuǎn)市中宇環(huán)保實(shí)業(yè)有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/46
• 分類號(hào): C23F1/46
• 代理公司: 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44288
• 代理人: 湯喜友

1.一種含銅離子蝕刻液循環(huán)回收處理裝置，其特征在于，包括：

密封的電解槽，該電解槽內(nèi)設(shè)有復(fù)合隔膜，該復(fù)合隔膜將電解槽分為陰極室和陽(yáng)極室，該電解槽與生產(chǎn)線蝕刻缸相連通；

氯氣儲(chǔ)存器，用于儲(chǔ)存氯氣，該氯氣儲(chǔ)存器通過(guò)導(dǎo)管與陽(yáng)極室的底部相連；

氯氣發(fā)生裝置，用于產(chǎn)生氯氣，該氯氣發(fā)生裝置與氯氣儲(chǔ)存器相連，且二者之間設(shè)置一通斷閥門；及

循環(huán)管道，該循環(huán)管道上端連接電解槽的頂部，下端連接氯氣儲(chǔ)存器。

2.如權(quán)利要求1所述的含銅離子蝕刻液循環(huán)回收處理裝置，其特征在于，所述循環(huán)管道上設(shè)有允許氣體由上往下流動(dòng)的單通閥。

3.如權(quán)利要求1所述的含銅離子蝕刻液循環(huán)回收處理裝置，其特征在于，所述循環(huán)管道上設(shè)有將電解槽內(nèi)氣體往陽(yáng)極室底部泵入的氣泵。

4.如權(quán)利要求1所述的含銅離子蝕刻液循環(huán)回收處理裝置，其特征在于，所述陽(yáng)極室的底部設(shè)有與所述導(dǎo)管連接的氣泡盤或氣泡石。

5.如權(quán)利要求1所述的含銅離子蝕刻液循環(huán)回收處理裝置，其特征在于，所述電解槽的頂部設(shè)有抽真空裝置。