[實用新型]一種硅片清洗槽

有效

• 申請號: 201420703272.3
• 申請日: 2014-11-21
• 公開（公告）號: CN204289404U
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發明（設計）人: 劉彬國;何京輝;李立偉;張立濤;張穩
• 申請（專利權）人: 邢臺晶龍電子材料有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;B08B3/12
• 代理公司: 石家莊國為知識產權事務所 13120
• 代理人: 米文智

技術領域

本實用新型涉及硅片清洗技術領域。

背景技術

太陽能是最大的無污染的可再生資源，取之不盡、用之不竭，是今后人類能源利用的重點之一。自上世紀末以來，?隨著全世界對能源消耗的劇增，傳統能源枯竭的威脅，以及多晶硅、?單晶硅發電技術的發展，太陽能光伏產業方興未艾。

隨著太陽能級單晶硅片的發展，客戶對硅片質量的要求越來越嚴苛，硅片表面潔凈度直接影響著硅片的轉換效率，所以客戶對硅片表面質量要求越發的嚴格。此外隨著切割工藝的調整，切割中使用的砂漿不斷的回收使用，造成砂漿在硅片表面附著較強，清洗較為困難，導致氧化片頻繁產生，就此情況特對目前的清洗設備進行完善和提高。

為解決上述問題，現在在硅片進入清洗線之前添加了一個硅片清洗槽，提前對硅片進行清洗。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種硅片清洗槽，該裝置利用超聲波震動對硅片表面的雜質進行清洗，可有效清除硅片表面附著的砂漿等物質，操作簡單快捷。

為解決上述問題本實用新型采取的技術方案是：一種硅片清洗槽，所述清洗槽為長方體形狀，在清洗槽的上部設有進水口和溢流口，所述溢流口的高度低于進水口的高度，所述清洗槽的槽底板為可震動的鋼板，所述鋼板的外側底面上連接有超聲波換能器。

優選的，所述清洗槽的槽底還設有排水口。

優選的，所述清洗槽的槽寬1.2米，長1.8米，槽內深度為20厘米，優選的，所述溢流口距離槽頂口的距離為2厘米。

采用上述技術方案所產生的有益效果在于：硅片清洗線在清洗硅片的時候不夠直觀，不能夠對硅片的清洗情況進行觀察，而且清洗效果不是很理想，所以在硅片進入到清洗線之前，添加了一個清洗槽，清洗槽內裝滿水，并且為流動的水，可通過進水口和溢流口不斷的進行進水和出水，使清洗槽內的水循環起來，硅片放在塑料花籃中，然后手持塑料花籃將其放到清洗槽的槽底板上，開啟與槽底相連接的超聲波轉換器，產生超聲波，槽內的水在鋼板的震動下隨之震動，超聲波清洗可有效去除硅片表面的砂漿等雜質，并且可通過人眼直接對清洗情況進行觀測，較直觀，所以本裝置清洗效果好，操作簡單方便，十分實用。

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明：

圖1?本實用新型的結構示意圖。

其中，1、清洗槽，2、進水口，3、溢流口，4、鋼板，5、超聲波換能器，6、排水口。

具體實施方式

如圖1所示：一種硅片清洗槽，清洗槽1為長方體形狀，在清洗槽1的上部設有進水口2和溢流口3，所述溢流口3的高度低于進水口2的高度，所述清洗槽1的槽底板為可震動的鋼板4，所述鋼板4的外側底面上連接有超聲波換能器5。所述清洗槽1的槽底還設有排水口6。所述清洗槽1的槽寬1.2米，長1.8米，槽內深度為20厘米，所述溢流口3距離槽頂口的距離為2厘米。

該清洗裝置首先利用的是超聲波進行清洗，利用超聲波換能器5產生超聲波，通過鋼板4使槽內的水共振，對置于塑料花籃且浸泡在水中的硅片表面進行清洗，清洗效果顯著。

硅片清洗線在清洗硅片的時候不夠直觀，不能夠對硅片的清洗情況進行觀察，而且清洗效果不是很理想，所以在硅片進入到清洗線之前，添加了一個清洗槽1，清洗槽1內裝滿水，并且為流動的水，可通過進水口2和溢流口3不斷的進行進水和出水，使清洗槽1內的水循環起來，硅片放在塑料花籃中，然后手持塑料花籃將其放到清洗槽1的槽底板上，開啟與槽底相連接的超聲波轉換器5，產生超聲波，槽內的水在鋼板4的震動下隨之震動，超聲波清洗可有效去除硅片表面的砂漿等雜質，并且可通過人眼直接對清洗情況進行觀測，較直觀，所以本裝置清洗效果好，操作簡單方便，十分實用。

綜上所述：該裝置利用超聲波震動對硅片表面的雜質進行清洗，可有效清除硅片表面附著的砂漿等物質，操作簡單快捷。