[實用新型]小鉻版容置框架及后制程用顯影槽和蝕刻槽

有效

• 申請號: 201420694115.0
• 申請日: 2014-11-18
• 公開（公告）號: CN204215148U
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發明（設計）人: 杜武兵;林偉;呂振群
• 申請（專利權）人: 深圳市路維光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 深圳市維邦知識產權事務所 44269
• 代理人: 黃莉

技術領域

本實用新型涉及小鉻版后制程技術領域，尤其涉及一種小鉻版容置框架及后制程用顯影槽和蝕刻槽。

背景技術

小鉻版1(即3英寸至5英寸的鉻版)經過光刻機曝光后，接著進行后制程的操作，即顯影、蝕刻和脫膜，現有的主要做法是：

1、顯影。如圖1所示，操作員一手拿著秒表計時，另一只手拿著小鉻版1斜插入并平放在顯影槽2中開始顯影，膜面朝上觀察光刻膠的變化，并注意處理膜面上的氣泡，達到預定的時間后將小鉻版1拿出沖水；

2、蝕刻。操作員一只手拿著小鉻版1在蝕刻液中不停晃動，觀察鉻膜的變化，達到預定的時間后將小鉻版1拿出沖水。

做完整個后制程，一片小鉻版1的耗用時間7分鐘左右。?

現有后制程操作存在以下諸多的問題，具體表現如下：

1)耗時長，易造成制品積壓，影響整體生產效率。現有的光刻機一次能同時曝光幾十片小鉻版，使用時間大概在5分鐘至15分鐘，而小鉻版是一片一片地進行后制程操作，每片耗時7分鐘，因而勢必會在該制程環節消耗大量工時，且易造成制品積壓，影響整體生產效率。

2)人力成本高。為充分利用光刻機效率，把光刻完的小鉻版及時進行后制程操作，就必須是多人配合同時進行光刻機曝光和后制程操作。

3)易產生氣泡，嚴重影響制品品質。小鉻版平放的顯影方式極易產生氣泡，當鉻版膜面朝上放入顯影槽時，液體迅速沒過小鉻版，在小鉻版和液體最后結合處很容易形成氣泡，導致該處顯影不充分而形成鉻殘，這對小鉻版的品質造成很大的影響。

實用新型內容

本實用新型實施例所要解決的技術問題在于，提高生產效率，節約人力成本，提升制品品質的小鉻版容置框架及后制程用顯影槽和蝕刻槽。

為了解決上述技術問題，本實用新型實施例提出了一種小鉻版容置框架，用于容置3英寸至5英寸的小鉻版，所述容置框架的主體為框體，框體相對的內壁上沿豎直方向一一對應地設有多個用于卡持小鉻版邊緣的卡槽，且兩相對應的卡槽的槽底距離與小鉻版的寬度相適應。

進一步地，所述卡槽的橫截面為口大底小的等腰梯形，相鄰兩個卡槽的槽壁的橫截面為等腰三角形。

進一步地，所述框體的底部與所述卡槽一一對應地設有用于卡持小鉻版邊緣的固定槽。

進一步地，所述框體的容置腔的高度小于小鉻版長度。

相應地，本實用新型實施例還提供了一種后制程用顯影槽，所述顯影槽的槽體底部設有如上所述的小鉻版容置框架，所述顯影槽用于盛放淹沒所述小鉻版的顯影液進行顯影。

進一步地，所述顯影槽上設有計時器。

相應地，本實用新型實施例又提供了一種后制程用蝕刻槽，所述蝕刻槽的槽體底部設有如上所述的小鉻版容置框架，所述蝕刻槽用于盛放淹沒所述小鉻版的蝕刻液進行蝕刻。

進一步地，所述蝕刻槽上設有計時器。

進一步地，所述蝕刻槽還包括連接并驅動小鉻版容置框架運動以使蝕刻液充分作用的動力源。

本實用新型實施例的小鉻版容置框架及后制程用顯影槽和蝕刻槽的有益效果是：通過采用框體相對的內壁上沿豎直方向一一對應地設有多個用于卡持小鉻版邊緣的卡槽，且兩相對應的卡槽的槽底距離與小鉻版的寬度相適應的技術手段，從而可對多片小鉻版豎直放置且同時進行后制程，達到了提高生產效率，節約人力成本，提升制品品質的技術效果。

附圖說明

圖1是現有的后制程操作過程示意圖。

圖2本實用新型實施例的結構示意圖。

圖3是圖2所示的小鉻版容置框架同時裝載多片小鉻版時的結構示意圖。

具體實施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互結合，下面結合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步詳細說明。

請參考圖2至圖3，本實用新型實施例提供了一種小鉻版容置框架10，用于容置3英寸至5英寸的小鉻版20，所述容置框架的主體為框體，框體相對的內壁上沿豎直方向一一對應地設有多個用于卡持小鉻版20邊緣的卡槽，且兩相對應的卡槽的槽底距離與小鉻版20的寬度相適應，因而所述小鉻版20可以順著卡槽插入小鉻版容置框架10中，并保持豎直狀態。

所述卡槽的橫截面為口大底小的等腰梯形，相鄰兩個卡槽的槽壁的橫截面為等腰三角形。當然，本領域技術人員可以理解的是，所述橫截面還可為其他如矩形等形狀。作為一?種實施方式，所述框體的底部與所述卡槽一一對應地設有用于卡持小鉻版20邊緣的固定槽，因而，所述固定槽與所述卡槽一一對應連通，以利于對小鉻版20更穩固地容置固定。