[實(shí)用新型]小鉻版容置框架及后制程用顯影槽和蝕刻槽

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420694115.0
• 申請(qǐng)日: 2014-11-18
• 公開（公告）號(hào): CN204215148U
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 杜武兵;林偉;呂振群
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市路維光電股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/30
• 分類號(hào): G03F7/30
• 代理公司: 深圳市維邦知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 44269
• 代理人: 黃莉

1.一種小鉻版容置框架，用于容置3英寸至5英寸的小鉻版，其特征在于，所述容置框架的主體為框體，框體相對(duì)的內(nèi)壁上沿豎直方向一一對(duì)應(yīng)地設(shè)有多個(gè)用于卡持小鉻版邊緣的卡槽，且兩相對(duì)應(yīng)的卡槽的槽底距離與小鉻版的寬度相適應(yīng)。

2.如權(quán)利要求1所述的小鉻版容置框架，其特征在于，所述卡槽的橫截面為口大底小的等腰梯形，相鄰兩個(gè)卡槽的槽壁的橫截面為等腰三角形。

3.如權(quán)利要求1所述的小鉻版容置框架，其特征在于，所述框體的底部與所述卡槽一一對(duì)應(yīng)地設(shè)有用于卡持小鉻版邊緣的固定槽。

4.如權(quán)利要求1所述的小鉻版容置框架，其特征在于，所述框體的容置腔的高度小于小鉻版長(zhǎng)度。

5.一種后制程用顯影槽，其特征在于，所述顯影槽的槽體底部設(shè)有如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的小鉻版容置框架，所述顯影槽用于盛放淹沒所述小鉻版的顯影液進(jìn)行顯影。

6.如權(quán)利要求5所述的后制程用顯影槽，其特征在于，所述顯影槽上設(shè)有計(jì)時(shí)器。

7.一種后制程用蝕刻槽，其特征在于，所述蝕刻槽的槽體底部設(shè)有如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的小鉻版容置框架，所述蝕刻槽用于盛放淹沒所述小鉻版的蝕刻液進(jìn)行蝕刻。

8.如權(quán)利要求7所述的后制程用蝕刻槽，其特征在于，所述蝕刻槽上設(shè)有計(jì)時(shí)器。

9.如權(quán)利要求7所述的后制程用蝕刻槽，其特征在于，所述蝕刻槽還包括連接并驅(qū)動(dòng)小鉻版容置框架運(yùn)動(dòng)以使蝕刻液充分作用的動(dòng)力源。