[實(shí)用新型]一種金手指清洗裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420689839.6
• 申請(qǐng)日: 2014-11-17
• 公開（公告）號(hào): CN204396376U
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 程龍飛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華為技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/12
• 分類號(hào): B08B3/12;B08B13/00
• 代理公司: 深圳市深佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44285
• 代理人: 王仲凱

1.一種金手指清洗裝置，其特征在于，包括：

清洗托盤，所述清洗托盤側(cè)壁上設(shè)置有多個(gè)放置槽，所述放置槽垂直于所述清洗托盤的底面，用于插入待清洗內(nèi)存條，對(duì)待清洗內(nèi)存條進(jìn)行支撐；

清洗容器，所述清洗容器用于盛放清洗劑；

超聲發(fā)生裝置，所述超聲發(fā)生裝置位于所述清洗容器內(nèi)，用于發(fā)生超聲波，利用所述清洗容器內(nèi)的清洗劑對(duì)待清洗內(nèi)存條進(jìn)行清洗。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金手指清洗裝置，其特征在于，所述放置槽包括：相對(duì)設(shè)置在所述清洗托盤側(cè)壁上的第一位置槽和第二位置槽，且所述第一位置槽和第二位置槽底端之間水平距離小于待清洗內(nèi)存條的長(zhǎng)度，所述第一位置槽和第二位置槽頂端之間的水平距離不小于待清洗內(nèi)存條的長(zhǎng)度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的金手指清洗裝置，其特征在于，所述第一位置槽和第二位置槽頂端之間的水平距離大于待清洗內(nèi)存條的長(zhǎng)度。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的金手指清洗裝置，其特征在于，所述第一位置槽的寬度大于所述待清洗內(nèi)存條的厚度，所述第二位置槽的寬度大于所述待清洗內(nèi)存條的厚度。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的金手指清洗裝置，其特征在于，所述第一位置槽與所述清洗托盤的底面所成的角度為鈍角。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的金手指清洗裝置，其特征在于，所述第二位置槽與所述清洗托盤的底面所成的角度為鈍角。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的金手指清洗裝置，其特征在于，所述清洗托盤還包括：

與所述清洗托盤側(cè)壁頂端固定連接的突出平臺(tái)，用于在放置有待清洗內(nèi)存條的清洗托盤浸入所述清洗容器內(nèi)的清洗劑中時(shí)，架設(shè)在所述清洗容器的側(cè)壁上，對(duì)所述清洗托盤的位置進(jìn)行固定。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的金手指清洗裝置，其特征在于，所述清洗托盤?還包括：

與所述清洗托盤側(cè)壁頂端固定連接的突出平臺(tái)，用于在放置有待清洗內(nèi)存條的清洗托盤浸入所述清洗容器內(nèi)的清洗劑中時(shí)，架設(shè)在所述清洗容器的側(cè)壁上，對(duì)所述清洗托盤的位置進(jìn)行固定。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金手指清洗裝置，其特征在于，放置有待清洗內(nèi)存條的清洗托盤浸入所述清洗容器內(nèi)的清洗劑中時(shí)，待清洗內(nèi)存條的金手指完全浸于所述清洗劑中。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的金手指清洗裝置，其特征在于，所述放置有待清洗內(nèi)存條的清洗托盤侵入所述清洗容器內(nèi)的清洗劑中時(shí)，所述清洗劑的液面高度與待清洗內(nèi)存條金手指背離所述清洗托盤底部一端的高度相同。

11.根據(jù)權(quán)利要求1-5或8-10任一項(xiàng)所述的金手指清洗裝置，其特征在于，所述清洗托盤為塑料托盤。