[實用新型]一種金手指清洗裝置

有效

• 申請號: 201420689839.6
• 申請日: 2014-11-17
• 公開（公告）號: CN204396376U
• 公開（公告）日: 2015-06-17
• 發明（設計）人: 程龍飛
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B13/00
• 代理公司: 深圳市深佳知識產權代理事務所(普通合伙) 44285
• 代理人: 王仲凱

技術領域

本實用新型涉及內存條清洗技術領域，尤其涉及一種金手指清洗裝置。

背景技術

現在的一臺高端服務器一般都會有上百根內存條，如目前高端4路服務器的內存條數量已達到96根，高端8路服務器的內存條數量已達到192根，高端16路服務器的內存條數量已達到384根，高端32路服務器的內存條數量已達到768根。在整機拷機的時候，為了減小整機拷機過程中出現故障而導致整機重新進行的概率，需要在將內存裝到主板上以前，對內存進行清洗，以保證內存的良好接觸。而在客戶現場和生產調試過程中，因內存條金手指污染導致的內存接觸不良問題越來越多。

實用新型內容

為解決上述技術問題，本實用新型實施例提供了一種金手指清洗裝置，以對內存條的金手指進行清洗，解決因內存條金手指污染而導致的接觸不良問題。

為解決上述問題，本實用新型實施例提供了如下技術方案：

第一方面，本實用新型提出了一種金手指清洗裝置，包括：

清洗托盤，所述清洗托盤側壁上設置有多個放置槽，所述放置槽垂直于所述清洗托盤的底面，用于插入待清洗內存條，對待清洗內存條進行支撐；

清洗容器，所述清洗容器用于盛放清洗劑；

超聲發生裝置，所述超聲發生裝置位于所述清洗容器內，用于發生超聲波，利用所述清洗容器內的清洗劑對待清洗內存條進行清洗。

結合第一方面，在本實用新型的第一種可能的實現方式中，所述放置槽?包括：相對設置在所述清洗托盤側壁上的第一位置槽和第二位置槽，且所述第一位置槽和第二位置槽底端之間水平距離小于待清洗內存條的長度，所述第一位置槽和第二位置槽頂端之間的水平距離不小于待清洗內存條的長度。

結合第一方面的第一種可能的實現方式，在本實用新型第二種可能的實現方式中，所述第一位置槽和第二位置槽頂端之間的水平距離大于待清洗內存條的長度。

結合第一方面第二種可能的實現方式，在本實用新型第三種可能的實現方式中，所述第一位置槽的寬度大于所述待清洗內存條的厚度，所述第二位置槽的寬度大于所述待清洗內存條的厚度。

結合第一方面第三種可能的實現方式，在本實用新型第四種可能的實現方式中，所述第一位置槽與所述清洗托盤的底面所成的角度為鈍角。

結合第一方面第三種可能的實現方式或第四種可能的實現方式，在本實用新型第五種可能的實現方式中，所述第二位置槽與所述清洗托盤的底面所成的角度為鈍角。

結合第一方面上述任一種可能的實現方式，在本實用新型的第六種可能的實現方式中，所述清洗托盤還包括：

與所述清洗托盤側壁頂端固定連接的突出平臺，用于在放置有待清洗內存條的清洗托盤浸入所述清洗容器內的清洗劑中時，架設在所述清洗容器的側壁上，對所述清洗托盤的位置進行固定。

結合第一方面第六種可能的實現方式，在本實用新型第七種可能的實現方式，放置有待清洗內存條的清洗托盤浸入所述清洗容器內的清洗劑中時，待清洗內存條的金手指完全浸于所述清洗劑中。

結合第一方面第七種可能的實現方式，在本實用新型第八種可能的實現方式，所述放置有待清洗內存條的清洗托盤侵入所述清洗容器內的清洗劑中時，所述清洗劑的液面高度與待清洗內存條金手指背離所述清洗托盤底部一?端的高度相同。

結合第一方面上述任一種可能的實現方式，在本實用新型的第九種可能的實現方式中，所述清洗托盤為塑料托盤。

與現有技術相比，上述技術方案具有以下優點：

本實用新型實施例所提供的金手指清洗裝置，包括：清洗托盤，所述清洗托盤側壁上設置有多個放置槽，所述放置槽垂直于所述清洗托盤的底面，用于插入待清洗內存條，對待清洗內存條進行支撐；清洗容器，所述清洗容器用于盛放清洗劑；超聲發生裝置，所述超聲發生裝置位于所述清洗容器內，用于發生超聲波，利用所述清洗容器內的清洗劑對待清洗內存條進行清洗。本實用新型實施例所提供的金手指清洗裝置，在用于清洗內存條時，只需將待清洗內存條插入所述清洗托盤的放置槽內，其中，金手指的方向朝下，然后將放置有待清洗內存條的清洗托盤架設在所述清洗容器上，使得待清洗內存條的金手指浸入清洗劑中，再打開超聲發生裝置，利用所述清洗容器內的清洗劑對待清洗內存條進行超聲清洗。由此可見，本實用新型實施例所提供的金手指清洗裝置，在清洗內存條時，簡單方便，一次可清洗多跟內存條，效率較高，且在清洗過程中不會引入污染，從而解決了因內存條金手指污染而導致的接觸不良問題。

附圖說明