[實(shí)用新型]離子注入均勻性調(diào)整裝置以及離子注入裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420684644.2
• 申請(qǐng)日: 2014-11-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN204167254U
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳策
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 昆山國(guó)顯光電有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01J37/21
• 分類(lèi)號(hào): H01J37/21;H01J37/317
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種離子注入均勻性調(diào)整裝置，其特征在于，包括：反饋控制系統(tǒng)、與所述反饋控制系統(tǒng)電連接的驅(qū)動(dòng)裝置、及由所述驅(qū)動(dòng)裝置根據(jù)所述反饋控制系統(tǒng)的反饋信息驅(qū)動(dòng)從而使得基板相對(duì)離子束發(fā)生傾斜的基板夾持裝置。

2.如權(quán)利要求1所述的離子注入均勻性調(diào)整裝置，其特征在于，所述基板夾持裝置包括橫向支架以及與所述橫向支架連接的豎向支架，所述橫向支架以及豎向支架上均設(shè)置有多個(gè)固定夾。

3.如權(quán)利要求2所述的離子注入均勻性調(diào)整裝置，其特征在于，所述橫向支架與所述豎向支架固定連接形成一“L”型結(jié)構(gòu)。

4.如權(quán)利要求2所述的離子注入均勻性調(diào)整裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置為電機(jī)，所述電機(jī)通過(guò)設(shè)置的傳動(dòng)軸與所述橫向支架連接。

5.如權(quán)利要求2所述的離子注入均勻性調(diào)整裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置為電機(jī)，所述電機(jī)通過(guò)設(shè)置的傳動(dòng)軸與所述豎向支架連接。

6.如權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的離子注入均勻性調(diào)整裝置，其特征在于，所述離子注入均勻性調(diào)整裝置還包括移動(dòng)底座，所述驅(qū)動(dòng)裝置固定于所述移動(dòng)底座上。

7.如權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的離子注入均勻性調(diào)整裝置，其特征在于，所述反饋控制系統(tǒng)包括法拉第杯組以及與所述法拉第杯組連接的控制單元，所述驅(qū)動(dòng)裝置與所述控制單元連接。

8.如權(quán)利要求7所述的離子注入均勻性調(diào)整裝置，其特征在于，所述法拉第杯組由若干豎直均勻排列的法拉第杯組成。

9.一種離子注入裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至8中任意一項(xiàng)所述的離子注入均勻性調(diào)整裝置。

10.如權(quán)利要求9所述的離子注入裝置，其特征在于，還包括離子源和束流傳輸系統(tǒng)。