[實用新型]單體真空鍍膜設備轉架載片的自動翻轉結構

有效

• 申請號: 201420657471.5
• 申請日: 2014-11-06
• 公開（公告）號: CN204265839U
• 公開（公告）日: 2015-04-15
• 發明（設計）人: 邵海平
• 申請（專利權）人: 邵海平
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50
• 代理公司: 深圳市千納專利代理有限公司 44218
• 代理人: 黃良寶

技術領域

本實用新型涉及單體真空鍍膜領域，具體涉及單體真空鍍膜設備轉架載片的自動翻轉結構。

背景技術

目前的濺射蒸發混鍍單體真空鍍膜設備在鍍膜時，都是先濺射完后，然后破空把轉架機構的載片手動板到反面再做蒸發處理，然而這樣鍍膜效率由于需要破空步驟以及后動翻轉步驟致使生產效率很低，而且由于破空的影響使而不能再真空環境下一次成膜，對膜層質量有隱患。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供單體真空鍍膜設備轉架載片的自動翻轉結構來解決現有技術中鍍膜時，都是先濺射完后，然后破空把轉架機構的載片手動板到反面再做蒸發處理，而使生產效率很低，而且由于破空的影響使而不能再真空環境下一次成膜，對膜層質量有隱患的問題。

本實用新型解決上述技術問題的技術方案如下：單體真空鍍膜設備轉架載片的自動翻轉結構，包括底板，設置于所述底板上的閉環運送機構和驅動該閉環運送機構的驅動機構，所述閉環運送機構上設有通過閉環運送機構運送的旋轉組件，所述旋轉組件的外側上設有隨旋轉組件轉動的三個以上的支桿，所述旋轉組件上設有用于固定載片的固定組件，所述底板上閉環運送機構的一側上還設有用于阻擋該支桿的阻擋組件。

在上述技術方案的基礎上，本實用新型還可以做如下改進。

進一步，所述閉環機構包括旋轉機構、傳送帶機構或導軌運送機構；

所述旋轉機構包括轉盤和驅動所述轉盤轉動的轉盤驅動電機，所述轉盤驅動電機與轉盤通過齒輪或皮帶傳動，所述旋轉組件位于轉盤上的外側上，所述阻擋組件包括設置于底板上位于轉盤外側的檔桿；

進一步，所述旋轉組件包括固定于閉環運送機構上的旋轉軸，隨旋轉軸轉動的三個以上的支桿位于旋轉軸上；

進一步，所述支桿為四個，四個所述支桿中每兩個支桿為同軸設置，同軸的四個所述支桿分為第一支桿對和第二支桿對；

進一步，所述第一支桿對和第二支桿對相互垂直，所述第一支桿對的高度高于第二支桿對；

進一步，所述檔桿的高度不小于第二支桿的高度對且小于第一支桿對的高度；

進一步，所述阻擋組件還包括設置于底板上與第一支桿對相互配合的檔桿，所述檔桿的高度大于第一支桿對，所述檔桿與擋塊的距離不小于第一檔桿對或第二檔桿對的轉動直徑；

進一步，所述支桿和/或檔桿位于底板上的一端連接有驅動支桿和/或檔桿上下運動的氣缸或驅動電機。

本實用新型的有益效果是：本實用新型通過使用閉環運送的方式，能達到所有載片能固定的位置，并且通過將載片放置在轉軸上，通過轉軸上的支桿與擋塊及檔桿相互配合，可實現載片自動轉動任意角度，如當設置兩對支桿的時候，僅采用一個檔桿及一個擋塊就可使載片轉動180度，并且閉環運送線，沒轉動一圈即可轉動180度，從而解決現有技術中無法自動翻轉的問題，從而達到正反面鍍膜能在真空條件下一次性完成，成膜質量高，且本實用新型中可采用轉盤結構作為閉環運送線，通過轉盤驅動電機驅動轉動即可，僅需對現有的轉架進行簡單改造即可，結構簡單，生產成本低；還可在支桿和/或檔桿位于底板上的一端設置氣缸或驅動電機，從而達到在無需翻轉時，不阻擋檔桿或檔桿，或是阻擋檔桿或檔桿之中一個改變每一圈的轉動角度。

附圖說明

圖1是本實用新型自動翻轉結構的實施例結構圖；

圖2為本實用新型自動翻轉結構中旋轉組件結構實施例結構圖；

圖3為本實用新型自動翻轉結構中阻擋組件實施例結構圖。

附圖中，各標號所代表的部件如下：

1、底板，2、轉盤，21、轉盤齒輪，3、旋轉組件，3a、旋轉組件a狀態，31、旋轉軸，32、第一支桿，33、第二支桿，34、第三支桿，35、第四支桿，36、氣缸，37、固定組件，4、阻擋組件，41、檔桿，42、擋塊，5、驅動齒輪。?

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型的原理和特征進行描述，所舉實例只用于解釋本實用新型，并非用于限定本實用新型的范圍。

圖1是本實用新型自動翻轉結構的實施例結構圖；包括底板1，設置于所述底板上的閉環運送機構和驅動該閉環運送機構的驅動機構，所述閉環運送機構上設有通過閉環運送機構運送的旋轉組件，所述旋轉組件的外側上設有隨旋轉組件轉動的三個以上的支桿，所述旋轉組件上設有用于固定載片的固定組件，所述底板上閉環運送機構的一側上還設有用于阻擋該支桿的阻擋組件。