[實用新型]單體真空鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)架載片的自動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420657471.5 | 申請日: | 2014-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN204265839U | 公開(公告)日: | 2015-04-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 邵海平 | 申請(專利權(quán))人: | 邵海平 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50 |
| 代理公司: | 深圳市千納專利代理有限公司 44218 | 代理人: | 黃良寶 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 單體 真空鍍膜 設(shè)備 轉(zhuǎn)架載片 自動 翻轉(zhuǎn) 結(jié)構(gòu) | ||
1.單體真空鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)架載片的自動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),其特征在于:包括底板,設(shè)置于所述底板上的閉環(huán)運送機構(gòu)和驅(qū)動該閉環(huán)運送機構(gòu)的驅(qū)動機構(gòu),所述閉環(huán)運送機構(gòu)上設(shè)有通過閉環(huán)運送機構(gòu)運送的旋轉(zhuǎn)組件,所述旋轉(zhuǎn)組件的外側(cè)上設(shè)有隨旋轉(zhuǎn)組件轉(zhuǎn)動的三個以上的支桿,所述旋轉(zhuǎn)組件上設(shè)有用于固定載片的固定組件,所述底板上閉環(huán)運送機構(gòu)的一側(cè)上還設(shè)有用于阻擋該支桿的阻擋組件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單體真空鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)架載片的自動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述閉環(huán)機構(gòu)為旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、傳送帶機構(gòu)或?qū)к夁\送機構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單體真空鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)架載片的自動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)包括轉(zhuǎn)盤和驅(qū)動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機,所述轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機與轉(zhuǎn)盤通過齒輪或皮帶傳動,所述旋轉(zhuǎn)組件位于轉(zhuǎn)盤上的外側(cè)上,所述阻擋組件包括設(shè)置于底板上位于轉(zhuǎn)盤外側(cè)的檔桿。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的單體真空鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)架載片的自動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)組件包括固定于閉環(huán)運送機構(gòu)上的旋轉(zhuǎn)軸,隨旋轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動的三個以上的支桿位于旋轉(zhuǎn)軸上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的單體真空鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)架載片的自動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述支桿為四個,四個所述支桿中每兩個支桿為同軸設(shè)置,同軸的四個所述支桿分為第一支桿對和第二支桿對。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的單體真空鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)架載片的自動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一支桿對和第二支桿對相互垂直,所述第一支桿對的高度高于第二支桿對。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的單體真空鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)架載片的自動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述檔桿的高度不小于第二支桿的高度對且小于第一支桿對的高度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的單體真空鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)架載片的自動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述阻擋組件還包括設(shè)置于底板上與第一支桿對相互配合的檔桿,所述檔桿的高度大于第一支桿對,所述檔桿與擋塊的距離不小于第一檔桿對或第二檔桿對的轉(zhuǎn)動直徑。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的單體真空鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)架載片的自動翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),其特征在于:所述支桿和/或檔桿位于底板上的一端連接有驅(qū)動支桿和/或檔桿上下運動的氣缸或驅(qū)動電機。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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