[實用新型]一種具有曝光功能的涂膠顯影機有效
| 申請號： | 201420652598.8 | 申請日： | 2014-11-05 |
| 公開（公告）號： | CN204155062U | 公開（公告）日： | 2015-02-11 |
| 發明（設計）人： | 蔡家豪;王兵;陳松;呂榮英;段偉 | 申請（專利權）人： | 安徽三安光電有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 241000 安徽*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 曝光 功能 涂膠 顯影 | ||
1.一種具有曝光功能的涂膠顯影機，至少包括涂膠單元、曝光單元、顯影單元以及晶片承載裝置，所述涂膠單元、曝光單元和顯影單元通過具有固定、加熱和旋轉晶片功能的晶片承載裝置作為載體，進行涂膠、曝光和顯影的循環操作，實現集涂膠、曝光和顯影功能于一體。
2.根據權利要求1所述的一種具有曝光功能的涂膠顯影機，其特征在于：所述晶片承載裝置的數目大于等于2。
3.根據權利要求2所述的一種具有曝光功能的涂膠顯影機，其特征在于：所述晶片承載裝置呈線性或圓周排列。
4.根據權利要求1所述的一種具有曝光功能的涂膠顯影機，其特征在于：所述晶片承載裝置包括T型載盤、熱盤、真空裝置以及驅動T型載盤升降和旋轉的驅動裝置。
5.根據權利要求4所述的一種具有曝光功能的涂膠顯影機，其特征在于：所述T型載盤的水平部設置有多個放置晶片的晶片凹槽且其底部中心具有多個真空孔。
6.根據權利要求5所述的一種具有曝光功能的涂膠顯影機，其特征在于：所述晶片凹槽的數目大于等于4。
7.根據權利要求4所述的一種具有曝光功能的涂膠顯影機，其特征在于：所述T型載盤的垂直部穿過所述熱盤中心的通孔，并與所述驅動裝置連接。
8.根據權利要求4所述的一種具有曝光功能的涂膠顯影機，其特征在于：所述真空裝置包括真空管與抽真空裝置，且所述抽真空裝置與T型載盤的垂直部相連接。
9.?根據權利要求8所述的一種具有曝光功能的涂膠顯影機，其特征在于：所述真空管設置于所述晶片凹槽背面且環繞于所述真空孔的下端。
10.根據權利要求1所述的一種具有曝光功能的涂膠顯影機，其特征在于：所述曝光單元包括曝光用光源、位于光源下方的光罩板以及連接件。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于安徽三安光電有限公司，未經安徽三安光電有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420652598.8/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種制冷裝置和制冷電器
- 下一篇：四管制雙蒸發器制冷系統
