[實用新型]相對法高真空、相對法低真空及膨脹法一體式校準裝置

有效

• 申請號: 201420626210.7
• 申請日: 2014-10-27
• 公開（公告）號: CN204142418U
• 公開（公告）日: 2015-02-04
• 發明（設計）人: 陳俊華
• 申請（專利權）人: 北京麥克思拓測控科技有限公司
• 主分類號: G01L27/00
• 分類號: G01L27/00
• 代理公司: 北京權泰知識產權代理事務所(普通合伙) 11460
• 代理人: 王道川

技術領域

本實用新型涉及一種真空校準裝置，特別涉及一種相對法高真空、相對法低真空及膨脹法一體式校準裝置。

背景技術

真空計校準是真空測量的基礎，是研究和發展真空測量的有力工具。而真空計刻度：是在一定條件下對一種類的氣體進行的，從而得到校準系數或刻度曲線，借以確定相對真空計的讀數及其大致的測量量程及精度。氣體種類、工作條件、儀器配置等改變，校準曲線也改變，因此真空校準是必要的，定期的。而現有真空校準裝置功能單一較多，即可以校準高真空規的無法對低真空規進行校準，可以校準低真空規的無法對高真空規進行校準，此外校準量程受限也導致常規真空校準裝置無法對特定類的真空規進行校準。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型在于提供一種即可以對高真空規進行校準又可以對低真空規校準且具有較寬校準量程的相對法高真空、相對法低真空和膨脹法一體式校準裝置。

為解決上述問題，本實用新型采用如下技術方案：相對法高真空、相對法低真空及膨脹法一體式校準裝置，包括箱體和相對法高真空、相對法低真空及膨脹法一體式校準系統，所述相對法高真空、相對法低真空及膨脹法一體式校準系統設在所述箱體內；所述相對法高真空、相對法低真空及膨脹法一體式校準系統包括檢測管路、高真空校準分系統、低真空校準分系統、機械泵和分子泵；所述檢測管路包括導氣管、電阻規G₅、電磁隔斷閥V₁₀、手動隔斷閥V₁、微調閥V₅和電磁隔斷閥V₉；所述電阻規G₅、所述電磁隔斷閥V₁₀、所述分子泵、所述手動隔斷閥V₁、所述微調閥V₅和所述電磁隔斷閥V₉通過導氣管依次連接；所述機械泵依次經過電磁放氣閥V₁₂和擋油阱與位于所述電阻規G₅和所述電磁隔斷閥V₉之間的所述檢測管路導通連接，所述高真空校準分系統與位于所述手動隔斷閥V₁和所述微調閥V₅之間的所述檢測管路導通連接，所述低真空校準分系統與位于所述微調閥V₅和所述電磁隔斷閥V₉之間的所述檢測管路導通連接，位于所述手動隔斷閥V₁和所述微調閥V₅之間的所述檢測管路與位于所述微調閥V₅和所述電磁隔斷閥V₉之間的所述檢測管路經過手動隔斷閥V₆和膨脹閥V₇導通連接，位于所述微調閥V₅和所述電磁隔斷閥V₉之間的所述檢測管路微調閥V₁₁與氮氣存儲裝置導通連接。

上述相對法高真空、相對法低真空及膨脹法一體式校準裝置，所述高真空校準分系統包括高真空室、監測高真空電離規G₁、標準電離真空規G₂和高真空校準接入端，所述監測高真空電離規G₁與所述高真空室導通連接，所述標準電離真空規G₂與所述高真空室導通連接，所述高真空室通過手動隔斷閥V₂與所述高真空校準接入端導通連接，所述高真空室與位于所述手動隔斷閥V₁和所述微調閥V₅之間的所述檢測管路導通連接。

上述相對法高真空、相對法低真空及膨脹法一體式校準裝置，所述低真空校準分系統包括低真空室、1000Torr標準薄膜規G₃、1Torr標準薄膜規G₄和低真空校準接入端，所述1000Torr標準薄膜規G₃與所述低真空室導通連接，所述1Torr標準薄膜規G₄經過手動隔斷閥V₈與所述低真空室導通連接，所述低真空室通過手動隔斷閥V₄與所述低真空校準接入端導通連接，所述低真空室與位于所述電磁隔斷閥V₉和所述微調閥V₅之間的所述檢測管路導通連接，所述低真空室通過手動隔斷閥V₃與所述高真空校準接入端導通連接。

上述相對法高真空、相對法低真空及膨脹法一體式校準裝置，所述高真空校準接入端和所述低真空校準接入端均設有盲板。