[實用新型]一種可調陰極的對靶磁控濺射系統

有效

• 申請號: 201420609556.6
• 申請日: 2014-10-16
• 公開（公告）號: CN204237861U
• 公開（公告）日: 2015-04-01
• 發明（設計）人: 吳文亮
• 申請（專利權）人: 吳文亮
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及磁控濺射系統及其附件領域，尤其涉及到一種可調陰極的對靶磁控濺射系統。

背景技術

磁控濺射是一種重要的薄膜沉積技術。在實際應用中，在磁場的作用下，氬離子不斷的轟擊靶材，且這種轟擊不是均勻轟擊的，在靶材上面形成一定的溝槽，當溝槽打穿之后，整個靶材也就浪費了。

實用新型內容

針對濺射過程中，靶材的不均勻轟擊的問題，本實用新型提供一種可調陰極的對靶磁控濺射系統，能夠均勻的濺射靶材，大大提高靶材的利用率。本實用新型所采取的技術方案為，一種可調陰極的對靶磁控濺射系統，包括底部基體、底部磁鋼、底部靶材、頂部基體、頂部磁鋼、頂部靶材、可調電源，其中，底部磁鋼安裝在底部基體上，底部靶材安裝在底部磁鋼上，頂部磁鋼安裝在頂部基體上，頂部靶材安裝在頂部磁鋼上；底部靶材和頂部靶材相對；底部磁鋼和頂部磁鋼的磁極性相反；可調電源的兩端分別與底部磁鋼和頂部磁鋼相連接。

本實用新型在底部靶材和頂部靶材之間形成均勻的磁場，能夠均勻的濺射靶材，當底部靶材消耗一定的程度之后，通過可調電源能夠調節陰極，開始使用頂部靶材。本實用新型能夠均勻的濺射靶材，大大提高靶材的利用率。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖中：1底部基體、2底部磁鋼、3底部靶材、4頂部基體、5頂部磁鋼、6頂部靶材、7可調電源。

具體實施方式

以下結合附圖實施例對本實用新型作進一步詳細描述。

圖1為本實用新型的結構示意圖，底部基體1、底部磁鋼2、底部靶材3、頂部基體4、頂部磁鋼5、頂部靶材6、可調電源7，其中，底部磁鋼2安裝在底部基體1上，底部靶材3安裝在底部磁鋼2上，頂部磁鋼5安裝在頂部基體4上，頂部靶材6安裝在頂部磁鋼5上；底部靶材3和頂部靶材6相對；底部磁鋼2和頂部磁鋼5的磁極性相反；可調電源7的兩端分別與底部磁鋼2和頂部磁鋼5相連接。本實用新型在底部靶材3和頂部靶材6之間形成均勻的磁場，能夠均勻的濺射靶材，當底部靶材3消耗一定的程度之后，通過可調電源7能夠調節陰極，開始使用頂部靶材6。本實用新型能夠均勻的濺射靶材，大大提高靶材的利用率。

以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優點。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本發明的原理，在不脫離本發明精神和范圍的前提下，本發明還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。