[實用新型]一種可調(diào)陰極的對靶磁控濺射系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420609556.6
• 申請日: 2014-10-16
• 公開（公告）號: CN204237861U
• 公開（公告）日: 2015-04-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳文亮
• 申請（專利權(quán)）人: 吳文亮
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可調(diào)陰極的對靶磁控濺射系統(tǒng)，包括底部基體、底部磁鋼、底部靶材、頂部基體、頂部磁鋼、頂部靶材、可調(diào)電源，其特征在于：

所述的底部磁鋼安裝在底部基體上，底部靶材安裝在底部磁鋼上，頂部磁鋼安裝在頂部基體上，頂部靶材安裝在頂部磁鋼上；

所述的底部靶材和頂部靶材相對；

所述的底部磁鋼和頂部磁鋼的磁極性相反；

所述的可調(diào)電源的兩端分別與底部磁鋼和頂部磁鋼相連接。