[實用新型]一種滾輪套筒及應用該滾輪套筒的濕法刻蝕機有效
| 申請號: | 201420588853.7 | 申請日: | 2014-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN204167274U | 公開(公告)日: | 2015-02-18 |
| 發明(設計)人: | 鮑洪亮;王利國;戴德鵬;劉屹;郭輝 | 申請(專利權)人: | 晶澳(揚州)太陽能科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司: | 廣州知友專利商標代理有限公司 44104 | 代理人: | 李海波 |
| 地址: | 225131 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 滾輪 套筒 應用 濕法 刻蝕 | ||
1.一種滾輪套筒,其特征在于:所述的滾輪套筒(1)包括圓筒形套筒主體(101),該圓筒形套筒主體(101)的中部位置設有定位孔(1a),圓筒形套筒主體(101)的外周面上設有左凸臺(102)和右凸臺(103),所述左凸臺(102)和右凸臺(103)均具有與所述圓筒形套筒主體(101)共軸的圓環形橫截面,并且,所述左凸臺(102)和右凸臺(103)的外徑相等、軸向寬度相等,左凸臺(102)和右凸臺(103)的外側端面分別與所述圓筒形套筒主體(101)的兩端面平齊。
2.根據權利要求1所述的滾輪套筒,其特征在于:所述的滾輪套筒由PTFE材料一體成型。
3.根據權利要求1或2所述的滾輪套筒,其特征在于:所述左凸臺(102)和右凸臺(103)的軸向寬度與所述圓筒形套筒主體(101)的軸向寬度之比為1:15~1:17。
4.根據權利要求3所述的滾輪套筒,其特征在于:所述圓筒形套筒主體(101)的內徑尺寸為24mm、厚度為2mm、軸向寬度為75.2mm,所述左凸臺(102)和右凸臺(103)的外徑尺寸為46.86mm、軸向寬度為4.6mm。
5.一種應用權利要求1至4任意一項所述滾輪套筒的濕法刻蝕機,其特征在于:所述的濕法刻蝕機設有相互平行設置的上滾軸(2)和下滾軸(3),所述上滾軸(2)套裝有多個權利要求1至4任意一項所述的滾輪套筒(1),所述滾輪套筒(1)通過穿入所述定位孔(1a)的定位銷(4)固定在上滾軸(2)上,各個滾輪套筒(1)在上滾軸(2)上相分離均勻布置,所述左凸臺(102)和右凸臺(103)的外周面與下滾軸(3)的外周面之間留有用于硅片通過的間隙。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





