[實用新型]坩堝有效
| 申請號： | 201420587713.8 | 申請日： | 2014-10-11 |
| 公開（公告）號： | CN204097599U | 公開（公告）日： | 2015-01-14 |
| 發明（設計）人： | 王利偉;胡動力 | 申請（專利權）人： | 江西賽維LDK太陽能高科技有限公司 |
| 主分類號： | C30B28/06 | 分類號： | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 廣州三環專利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址： | 338000 江西省新余*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 坩堝 | ||
【權利要求書】：
1.一種坩堝，應用于多晶硅鑄錠生產，其特征在于，所述坩堝包括位于其內壁的底部中間位置的中間區域、及包圍所述中間區域的周邊區域，所述中間區域高于所述周邊區域，且所述中間區域向所述周邊區域平滑過渡。
2.如權利要求1所述的坩堝，其特征在于，所述中間區域與所述周邊區域之間的高度差沿著自所述中間區域向所述周邊區域輻射的方向逐漸變大。
3.如權利要求2所述的坩堝，其特征在于，所述中間區域與所述周邊區域的邊緣之間的所述高度差為0.1～5cm。
4.如權利要求3所述的坩堝，其特征在于，所述中間區域與所述周邊區域的邊緣位置之間的所述高度差為0.4cm。
5.如權利要求1所述的坩堝，其特征在于，所述中間區域占據所述坩堝內壁的底部的面積為10％～30％。
6.如權利要求5所述的坩堝，其特征在于，所述坩堝內壁的底部為曲面。
7.如權利要求1所述的坩堝，其特征在于，所述坩堝內壁還涂覆一層氮化硅涂層。
8.如權利要求1所述的坩堝，其特征在于，所述坩堝的材質為石英砂。
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