[實用新型]用于納米壓印復合模板的復制裝置

有效

• 申請號: 201420560206.5
• 申請日: 2014-09-26
• 公開（公告）號: CN204129433U
• 公開（公告）日: 2015-01-28
• 發明（設計）人: 史曉華
• 申請（專利權）人: 蘇州光舵微納科技有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;B82Y10/00;B82Y40/00
• 代理公司: 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232
• 代理人: 魏亮芳

技術領域

本實用新型涉及一種微納加工領域內的模板復制裝置，具體涉及一種用于納米壓印復合模板的復制裝置。

背景技術

在大規模集成電路制造中，應用最廣泛的是光刻工藝，其中包括了黃光光刻、極紫外光刻、電子束直寫、浸入式光刻等。在摩爾定律指引下，大規模集成電路已經穩步進入了納米時代，光刻在45nm節點已經形成瓶頸。由于光學光刻技術固有的限制，已難以滿足半導體產業繼續沿著摩爾定律快速發展。在下一代圖形轉移技術中，電子束直寫、X射線曝光和納米壓印技術占有重要地位。其中納米壓印技術率先由Stephen?Y.Chou教授提出，技術具有產量高、成本低和工藝簡單的優點。這是一種不同與傳統光刻技術的全新圖形轉移技術。納米壓印技術既擁有大規模工業生產所必須的高產出率、低成本的優勢，同時具備了電子束直寫等技術才能達到的高分辨率。它的出現和快速發展迅速引起了全世界科研和生產部門的廣泛重視。

近年來，納米壓印技術得到了迅猛的發展，其中壓印中模板的制備成為了關鍵技術。模板通常使用電子束直寫技術來制備，但是電子束直寫速度慢，成本高。模板的制備一直成為納米壓印技術中的關鍵性環節。因此，尋找一種制造成本低、復制快速且復制平整度高的制備模板的方法尤為重要。

實用新型內容

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種制造成本低、復制快速且復制平整度高的用于納米壓印復合模板的復制裝置。

為了達到上述目的，本實用新型的技術方案如下：

用于納米壓印復合模板的復制裝置，其包括第一對接單元和第二對接單元，其之間通過導向機構形成對合，且該第一對接單元和第二對接單元之間在對合后形成腔體。

本實用新型的復制裝置主要包括了第一對接單元、第二對接單元以及導向機構，第一對接單元和第二對接單元在對合后形成腔體，進行復制時，將支撐層和模板分別固定于第一對接單元和第二對接單元上，即固定在腔體內，然后通過向腔體內注入緩沖層(即用于復制的材料，如膠等)，利用緩沖層的流動性能，使得其在該密閉的腔體內緩慢地鋪開和填滿，待緩沖層形成后，復制的過程即完成。這其間，比較重要的一點，便是要保證對合后腔體上下的兩底面的平行度，即保證第一對接單元和第二對接單元的平行度，為了達到這種平行度，本實用新型便設置了導向機構。導向機構在常規的使用中，其都是為了形成導向作用，從而保證運動部件的平穩移動，本實用新型利用該導向機構，使得第一對接單元相對于第二對接單元、或者第二對接單元相對于第一對接單元進行對合時，可以形成導向作用，該導向作用可以有效地克服人手或者其他設備在將對接單元進行對合時可能對其之間平行度的影響，即使得對接單元的對接具有參照物，從而使得對合后的兩個對接單元得以保證平行度，從而使得腔體內所完成的復制品也可以保證其表面的平整度。

因此，本實用新型相比于現有技術，其首先精簡了結構的設置，使得制造成本得以降低；同時其復制過程簡單，只需要向腔體內注入緩沖層即可，復制速度也得以提高；最后，通過設置導向機構，提高了復制的平整度，使得本實用新型無論相較于其他復制裝置還是導向機構本身的作用，都取得了意想不到的技術效果，從而可以實現復合模板對微納結構圖案的高精度且高保真度的復制。

在上述技術方案的基礎上，本實用新型還可以作如下改進：

作為優選的方案，上述的導向機構為間隔設置的多個。

采用上述優選的方案，通過設置多個導向機構，使得各個導向機構在進行對接單元的對合時，彼此之間可以形成參照和牽制，使得對接單元的各個點，特別是邊緣部分得以保持一個平行度，從而進一步地提高對接單元之間的平行度，保證復制的平整度。

作為優選的方案，上述的導向機構包括導柱和導套，該導套設于第一對接單元上、該導柱對應該導套設于第二對接單元上，或者該導柱設于第一對接單元上、該導套對應該導柱設于第二對接單元上。

采用上述優選的方案，通過導柱和導套的配合，可以更加便于形成第一對接單元和第二對接單元的定向對合，保證對接單元之間的平行度。

作為優選的方案，上述的第一對接單元上設置有凸臺，第二對接單元上設置有對應該凸臺的凹槽，該凸臺的高度低于該凹槽的深度，該凸臺與凹槽對合形成上述腔體。

采用上述優選的方案，采用凸臺和凹槽的配合，可以使得腔體的四周邊緣不會因為對合而形成拼縫，從而使得所形成的腔體具有更佳的密閉性，從而防止因為漏氣而對復制的平整度產生影響。

作為優選的方案，上述的凹槽外還設有密封墊。

采用上述優選的方案，可以進一步地提高腔體的密閉性。