[實用新型]用于納米壓印復合模板的復制裝置有效
| 申請號： | 201420560206.5 | 申請日： | 2014-09-26 |
| 公開（公告）號： | CN204129433U | 公開（公告）日： | 2015-01-28 |
| 發明（設計）人： | 史曉華 | 申請（專利權）人： | 蘇州光舵微納科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;B82Y10/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232 | 代理人： | 魏亮芳 |
| 地址： | 215513 江蘇省蘇州市常熟市常熟*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 納米 壓印 復合 模板 復制 裝置 | ||
1.用于納米壓印復合模板的復制裝置，其特征在于，包括第一對接單元和第二對接單元，其之間通過導向機構形成對合，且所述第一對接單元和所述第二對接單元之間在對合后形成腔體。
2.根據權利要求1所述的用于納米壓印復合模板的復制裝置，其特征在于，所述導向機構為間隔設置的多個。
3.根據權利要求1或2所述的用于納米壓印復合模板的復制裝置，其特征在于，所述導向機構包括導柱和導套，所述導套設于所述第一對接單元上、所述導柱對應所述導套設于所述第二對接單元上，或者所述導柱設于所述第一對接單元上、所述導套對應所述導柱設于所述第二對接單元上。
4.根據權利要求1所述的用于納米壓印復合模板的復制裝置，其特征在于，所述第一對接單元上設置有凸臺，所述第二對接單元上設置有對應所述凸臺的凹槽，所述凸臺的高度低于所述凹槽的深度，所述凸臺與所述凹槽對合形成所述腔體。
5.根據權利要求4所述的用于納米壓印復合模板的復制裝置，其特征在于，所述凹槽外還設有密封墊。
6.根據權利要求1所述的用于納米壓印復合模板的復制裝置，其特征在于，所述第一對接單元上設置有凹槽，所述第二對接單元上設置有對應所述凹槽的凸臺，所述凸臺的高度低于所述凹槽的深度，所述凹槽與所述凸臺對合形成所述腔體。
7.根據權利要求6所述的用于納米壓印復合模板的復制裝置，其特征在于，所述凸臺外還設有密封墊。
8.根據權利要求1所述的用于納米壓印復合模板的復制裝置，其特征在于，所述第二對接單元為雙層結構，其上層部分形成與所述第一對接單元的對合。
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