[實(shí)用新型]一種半導(dǎo)體激光器陣列連接界面表征裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420479133.7 | 申請(qǐng)日: | 2014-08-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN204088272U | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張普;劉興勝;熊玲玲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L21/66 | 分類號(hào): | H01L21/66 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 楊引雪 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 半導(dǎo)體激光器 陣列 連接 界面 表征 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體激光器技術(shù)領(lǐng)域,涉及半導(dǎo)體激光器連接界面特性的測(cè)試,尤其是一種半導(dǎo)體激光器陣列連接界面特性表征裝置。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體激光器具有體積小、重量輕、電光轉(zhuǎn)換效率高、波長范圍廣、可靠性高和壽命長等優(yōu)點(diǎn),已經(jīng)成為光電行業(yè)中最有發(fā)展前途的領(lǐng)域,可廣泛應(yīng)用于通信、計(jì)算機(jī)(主要是數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和輸入輸出設(shè)備)、影視、制造業(yè)、航天、航空、材料處理、醫(yī)療、娛樂、科研、安全防護(hù)、軍事、反恐、工藝品、顯示和印刷等行業(yè)。目前半導(dǎo)體激光器的發(fā)展趨勢(shì)是進(jìn)一步提高功率、亮度及可靠性。一方面,需要在芯片外延生長方面開展研究工作,發(fā)展新的芯片材料及外延生長技術(shù);另外一方面,需要研究新型封裝方法,從熱管理、熱應(yīng)力管理、光譜控制、無空洞貼片等提高半導(dǎo)體激光器的性能及可靠性。
目前的單發(fā)光點(diǎn)半導(dǎo)體激光器連續(xù)波輸出功率僅為十幾瓦,為了實(shí)現(xiàn)大功率輸出,通常需要將半導(dǎo)體激光器做成陣列的形式(即所謂的“巴條”),其長度大多為1cm,包含幾個(gè)至幾十個(gè)發(fā)光點(diǎn),其連續(xù)波輸出功率可達(dá)幾百瓦。在幾百瓦的輸出功率下,電流密度將超過103W/cm2,因此對(duì)封裝技術(shù)提出了挑戰(zhàn)。
圖2給出了一個(gè)典型的大功率半導(dǎo)體激光器陣列封裝結(jié)構(gòu)示意圖,其采用倒裝芯片封裝形式,主要包括半導(dǎo)體激光器陣列芯片(巴條)、焊料層、熱沉(正極)、絕緣層、負(fù)極幾部分,其中焊料層起著電、熱及機(jī)械連接的作用,對(duì)于大功率半導(dǎo)體激光器陣列的性能及可靠性具有決定性的影響。
在大功率半導(dǎo)體激光器回流焊接過程中,由于熱沉表面的不平整、雜質(zhì)的侵入、表面氧化等不確定因素導(dǎo)致焊料層形成空洞;由于金屬間化合物的形成及生長,會(huì)形成Kirkendall空洞。
根據(jù)電流及溫度導(dǎo)致的物質(zhì)擴(kuò)散公式:
式中N為原子濃度,D0為內(nèi)稟擴(kuò)散率,k為波爾茲曼常數(shù),T(r)為不同位置的溫度分布,Z*q為有效電荷,△Y為結(jié)構(gòu)常數(shù),j(r)為不同位置的電流密度分布,jc為與應(yīng)力導(dǎo)致質(zhì)量回流相關(guān)的閾值電流密度,Q0為活化能,α為電阻率溫度系數(shù),ρ0為電阻率。當(dāng)▽·J>0時(shí)在焊料層中物質(zhì)消耗,導(dǎo)致了空洞的進(jìn)一步擴(kuò)展。電遷移及電熱遷移速率主要與電流密度、溫度梯度及溫度有關(guān)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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