[實(shí)用新型]一種液體供應(yīng)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420470070.9 | 申請(qǐng)日: | 2014-08-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204007056U | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-12-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 董明;肖方 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中芯國(guó)際集成電路制造(北京)有限公司 |
| 主分類號(hào): | F26B21/14 | 分類號(hào): | F26B21/14 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務(wù)所 31219 | 代理人: | 李儀萍 |
| 地址: | 100176 北京市大興*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 液體 供應(yīng) 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種液體供應(yīng)系統(tǒng)。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,硅片的直徑在不斷增大,而集成電路的線寬在不斷減小,由此來(lái)增加圖形密度。因此對(duì)硅片表面的清潔度要求越來(lái)越高。在典型的集成電路生產(chǎn)中要經(jīng)過(guò)幾十道的清洗工藝,硅片表面的顆粒、有機(jī)物、金屬、微粗糙度、自然氧化層等會(huì)嚴(yán)重影響器件性能,據(jù)統(tǒng)計(jì),清洗不佳引起的器件失效超過(guò)集成電路制造中總損失的一半。因此,硅片清洗技術(shù)的發(fā)展在整個(gè)超大規(guī)模集成電路的制造中至關(guān)重要。而在硅片清洗技術(shù)中,硅片的干燥又尤為重要,因?yàn)楣杵稍锿ǔ檎麄€(gè)清洗過(guò)程的最后一步,如果處理不當(dāng),將會(huì)前功盡棄。
在目前使用的硅片干燥法中,較為先進(jìn)的是IPA(Isopropanol,異丙醇)干燥法,即利用異丙醇易揮發(fā)的特性,將異丙醇加熱至一定的溫度后通入干燥槽內(nèi),實(shí)現(xiàn)對(duì)所述干燥槽內(nèi)的硅片進(jìn)行干燥。在該干燥法中,IPA的供應(yīng)為其核心技術(shù),如何持續(xù)、穩(wěn)定、適量的將IPA供應(yīng)到干燥槽中至關(guān)重要。
在現(xiàn)有技術(shù)中,IPA供應(yīng)系統(tǒng)如圖1所示,所述IPA供應(yīng)系統(tǒng)包含供應(yīng)槽110、緩沖槽111、支管112、第一傳感器113、第二傳感器114、第三傳感器115、第四傳感器116、傳感器控制閥117、供液管118、氮?dú)夤?19、輸液管120和排液管121。供應(yīng)槽110置于緩沖槽111內(nèi),緩沖槽111內(nèi)盛放有保持恒溫為70℃的水,用于為供應(yīng)槽110內(nèi)的IPA122進(jìn)行加熱;支管112兩端分別連接于供應(yīng)槽110中液面的上部和供應(yīng)槽的下部;所述支管112內(nèi)自下而上依次設(shè)置有所述第三傳感器115、第一傳感器113、第二傳感器114和所述第四傳感器116,其中,所述第一傳感器113和第二傳感器114均與傳感器控制閥117電連接;供液管118位于供應(yīng)槽110的上方,供液管118靠近供應(yīng)槽110的一端設(shè)有傳感器控制閥117;氮?dú)夤?19一端置于供應(yīng)槽110內(nèi)部上方;輸液管120將供應(yīng)槽110與一干燥槽相連通;排液管121位于供應(yīng)槽110的底部。
在使用的過(guò)程中,所述IPA供應(yīng)系統(tǒng)中的所述第一傳感器113和第二傳感器114根據(jù)供應(yīng)槽110內(nèi)液面情況控制傳感器控制閥117為供應(yīng)槽110注入所需IPA122,待供應(yīng)槽110內(nèi)的IPA122被緩沖槽111內(nèi)的水加熱到所需溫度后,通過(guò)氮?dú)夤?19通入氮?dú)猓琁PA122容易揮發(fā),其揮發(fā)氣體在氮?dú)獾膮f(xié)助下通過(guò)輸液管120進(jìn)入干燥槽內(nèi)為待干燥硅片進(jìn)行干燥。
但現(xiàn)有的IPA供應(yīng)系統(tǒng)存在如下問(wèn)題:1.供應(yīng)槽只有一條供液管,供應(yīng)槽依靠第一傳感器113和第二傳感器114的作動(dòng)進(jìn)行IPA的補(bǔ)給,如果第一傳感器113和第二傳感器114損壞,IPA將不能得到及時(shí)的補(bǔ)充。2.當(dāng)?shù)獨(dú)獯等牍?yīng)槽時(shí),供應(yīng)槽內(nèi)的IPA在氮?dú)獾拇祫?dòng)下會(huì)產(chǎn)生劇烈的浮動(dòng),由于各傳感器是根據(jù)IPA液面情況進(jìn)行控制工作的,IPA的浮動(dòng)會(huì)造成傳感器發(fā)出誤報(bào)警,進(jìn)而影響整個(gè)干燥工藝的進(jìn)行。3.供應(yīng)槽在完成一次干燥工藝后,一次性注入IPA的量太多,將新注入的IPA加熱到所需的溫度耗時(shí)太久,影響工作的效率。
鑒于此,有必要設(shè)計(jì)一種新的液體供應(yīng)系統(tǒng)用以解決上述技術(shù)問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本實(shí)用新型的目的在于提供一種液體供應(yīng)系統(tǒng),用于解決現(xiàn)有技術(shù)中由于供應(yīng)系統(tǒng)中只有一條供液管,當(dāng)控制所述供液管閥門的傳感器損壞時(shí),不能為供應(yīng)槽及時(shí)補(bǔ)充液體;氮?dú)夤芪挥诠?yīng)槽內(nèi),通入氮?dú)鈺r(shí)供應(yīng)槽內(nèi)液體產(chǎn)生劇烈浮動(dòng),導(dǎo)致傳感器誤報(bào)警;以及供應(yīng)槽一次性注入液體太多,將新注入液體加熱至所需溫度耗時(shí)太久,影響工作效率的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本實(shí)用新型提供一種液體供應(yīng)系統(tǒng),所述液體供應(yīng)系統(tǒng)至少包含第一連通管、第二連通管、第一開(kāi)關(guān)閥、第二開(kāi)關(guān)閥、供應(yīng)槽、補(bǔ)給槽、第一供液管、傳感器控制閥、氮?dú)夤堋⒅Ч堋⒌谝粋鞲衅骱偷诙鞲衅鳎黄渲校鲅a(bǔ)給槽上部通過(guò)所述第一連通管與所述供應(yīng)槽上部相連通,所述補(bǔ)給槽底部通過(guò)所述第二連通管與所述供應(yīng)槽底部相連通;所述第一連通管和所述第二連通管上分別設(shè)有所述第一開(kāi)關(guān)閥和所述第二開(kāi)關(guān)閥;所述第一供液管位于所述補(bǔ)給槽的上方;所述第一供液管靠近所述補(bǔ)給槽的一端設(shè)有所述傳感器控制閥;所述氮?dú)夤艿囊欢酥糜谒龉?yīng)槽內(nèi)部上方;所述支管兩端分別連接于所述補(bǔ)給槽中液面的上部和所述補(bǔ)給槽的下部;且所述支管內(nèi)自下而上依次設(shè)置有所述第一傳感器和所述第二傳感器,所述第一傳感器和所述第二傳感器均與所述傳感器控制閥電連接。
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