[實用新型]一種液相鍍膜裝置有效
| 申請號: | 201420464686.5 | 申請日: | 2014-08-18 |
| 公開(公告)號: | CN204074439U | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發明(設計)人: | 閔永剛;范天舉;苑春秋;唐偉;楊文斌;劉屹東 | 申請(專利權)人: | 南京新月材料科技有限公司;鹽城增材科技有限公司;鑫月華科技(杭州)有限公司 |
| 主分類號: | B05C11/08 | 分類號: | B05C11/08;B05C11/10;B05D3/02 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鍍膜 裝置 | ||
技術領域
本實用新型屬于鍍膜技術領域,具體涉及到一種液相鍍膜裝置。
背景技術
在各種新技術新科技不斷發展的今天,鍍膜工藝始終是工業生產中一項重要技術,特別是在防腐涂層,防靜電涂層,薄膜太陽能電池,平板顯示等方面,好的鍍膜工藝是產品成敗的關鍵所在。隨著目前的工業產品不斷朝著輕型化、微型化、廉價化發展,其對鍍膜的性價比要求也越來越高。
目前,比較成熟的鍍膜工藝主要有旋涂法、蒸鍍法、噴涂法等。其中旋涂法工藝雖然簡單,但是鍍膜厚度不易控制;蒸鍍法鍍膜均勻,厚度可控,但是設備昂貴,條件要求較高,不利于低成本的工業化生產;噴涂法鍍膜,其膜厚不易控制,且對成膜材料要求較高。鑒于目前鍍膜工藝的缺陷及新型工業化的需要,迫切尋求一種工藝簡單,易于工業化生產且鍍膜質量可控的新型鍍膜裝置。
發明內容
為了克服目前鍍膜工藝的不足并適應低成本,高質量,易工業化的鍍膜要求,本實用新型提供了一種液相鍍膜裝置,該裝置不僅可以適應柔性鍍膜,而且還可以有效控制鍍膜厚。
為此,本實用新型提供技術方案是一種液相鍍膜裝置,包括儲液池,位于儲液池上的溶液流動板,所述的溶液通過輸送管輸送至計量泵,進而輸送至溶液流動板,所述的溶液流動板上方一定高度差處設置傳輸帶滾軸,滾軸上纏繞柔性基底以及收集裝置,所述柔性基底與溶液流動板的水平位置接觸進行鍍膜,與液體流動板接觸的柔性基底上表面設備滾軸;所述傳輸帶帶動柔性基底運動,所述的收集裝置與流動板間的柔性基底下方設置烘干裝置,加熱板與收集裝置間的柔性基底上設置膜厚檢測儀。
作為本發明的進一步改進,加熱板與收集裝置間的柔性基底上還設置在線控制模塊,所述控制模塊的一端連接于膜厚檢測儀,另一端連接于計量泵,便于隨時控制鍍膜厚度的均勻性,進而隨時將信息反饋給計量泵,及時調整溶液的流速或流量。
作為本發明的進一步改進,溶液流動板采用前端和后端為水平設計,中間為傾斜設計,便于漿料均勻地流出,使液體表面與柔性基底間形成穩定的壓差,將溶液均勻地鍍在基底表面上;流動板的材質為聚四氟乙烯、金屬、不銹鋼、塑料、玻璃中的任意一種。
作為本發明的進一步改進,柔性基底可為柔性基底為聚乙烯醇(PVA)、聚酰亞胺(PD)、聚酯(PET)中的任意一種。
作為本發明的進一步改進,與溶液流動板接觸的柔性基底上表面設置至少3個滾軸,其中至少有一個滾軸固定設置在柔性基底與溶液流動板接觸起始處,其余的滾軸可沿水平方向運動,主要利用滾軸自身重力來壓合鍍膜溶液與柔性基底,使二者粘合更牢固,同時使柔性基底在水平方向與溶液接觸平整。
作為本發明的進一步改進,在柔性基底與溶液流動板接觸間前,柔性基底上設置等離子處理器,等離子處理器對基底進行預處理,使其與鍍膜溶液具有更好的親和力,便于鍍膜溶液與基底粘合的更牢固。
作為本發明的進一步改進,計量泵設計2~10個加液口,滿足快速均勻加漿料需求,計量泵出口溶液的流速與傳輸帶上柔性基底的流速控制一致,
作為本發明的進一步改進,烘干裝置為加熱板或烘干器,使柔性基底上鍍的薄膜快速干燥凝固在基底上,然后便于鍍下一層薄膜。
作為本發明的進一步改進,鍍膜裝置可串聯或并聯布置,所述并聯鍍膜裝置布置在前一鍍膜裝置中的計量泵與收集裝置間,所述的串聯鍍膜裝置布置在前一鍍膜裝置中膜厚控制儀與收集裝置之間。
作為本發明的進一步改進,并聯或串聯裝置中各儲液池儲放不同溶液或相同溶液,便于在柔性基底上鍍多層不同溶液或不同層數的溶液,滿足多功能化鍍膜需求。
?本實用新型提供的液相鍍膜裝置簡單,易于操作,通過膜厚檢測儀和控制模塊在線控制鍍膜的厚度,并對膜厚進行及時調整;整個裝置的自動化程度高,利用鍍膜裝置的并聯或串聯布置可現實多層鍍膜滿足多功能薄膜的需求,也適用于低成本,連續化的工業鍍膜領域。
附圖說明
圖1為液相鍍膜裝置的結構示意圖簡圖。
圖2為串聯式液相鍍膜裝置的結構示意簡圖。
具體實施方式
現結合附圖和優選實施例對本實用新型作進一步詳細的說明。這些附圖均為簡化的示意圖,僅以示意方式說明本實用新型的基本結構,因此其僅顯示與本實用新型有關的構成。?
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