[實(shí)用新型]一種液相鍍膜裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420464686.5 | 申請(qǐng)日: | 2014-08-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204074439U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 閔永剛;范天舉;苑春秋;唐偉;楊文斌;劉屹東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京新月材料科技有限公司;鹽城增材科技有限公司;鑫月華科技(杭州)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B05C11/08 | 分類號(hào): | B05C11/08;B05C11/10;B05D3/02 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 210038 江蘇省南京市棲霞*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鍍膜 裝置 | ||
1.一種液相鍍膜裝置,包括儲(chǔ)液池(1),位于儲(chǔ)液池上的溶液流動(dòng)板(4),所述的溶液通過(guò)輸送管輸送至計(jì)量泵(3),進(jìn)而輸送至溶液流動(dòng)板(4),所述的溶液流動(dòng)板上方一定高度差處設(shè)置傳輸帶滾軸(5),滾軸上纏繞柔性基底(6)以及收集裝置(7),其特征在于:所述柔性基底與溶液流動(dòng)板的水平位置接觸進(jìn)行鍍膜,與液體流動(dòng)板接觸的柔性基底上表面設(shè)備滾軸;所述傳輸帶帶動(dòng)柔性基底運(yùn)動(dòng),所述的收集裝置與流動(dòng)板間的柔性基底下方設(shè)置烘干裝置(8),加熱板與收集裝置間的柔性基底上設(shè)置膜厚檢測(cè)儀(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置,其特征在于:還包括在線控制模塊(10),所述控制模塊一端連接于膜厚檢測(cè)儀,另一端連接于計(jì)量泵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置,其特征在于:所述的溶液流動(dòng)板采用前端和后端為水平設(shè)計(jì),中間為傾斜設(shè)計(jì);所述的流動(dòng)板的材質(zhì)為聚四氟乙烯、金屬、不銹鋼、塑料、玻璃中的任意一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置,其特征在于:所述的柔性基底為聚乙烯醇(PVA)、聚酰亞胺(PD)、聚酯(PET)中的任意一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置,其特征在于:與溶液流動(dòng)板接觸的柔性基底上表面設(shè)置至少3個(gè)滾軸,其中至少有一個(gè)滾軸固定設(shè)置在柔性基底與溶液流動(dòng)板接觸起始處。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置,其特征在于:與溶液流動(dòng)板接觸前的柔性基底上設(shè)置離子處理器(11)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置,其特征在于:所述的烘干裝置為加熱板或烘干器。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種液相鍍膜裝置,其特征在于:所述的計(jì)量泵設(shè)計(jì)2~10個(gè)加液口,所述計(jì)量泵出口溶液的流速與傳輸帶上柔性基底的速度控制一致。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液相鍍膜裝置,其特征在于:所述的鍍膜裝置可串聯(lián)或并聯(lián)布置。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液相鍍膜裝置,其特征在于:所述并聯(lián)鍍膜裝置布置在前一鍍膜裝置中的計(jì)量泵與收集裝置之間;所述的串聯(lián)鍍膜裝置布置在前一鍍膜裝置中膜厚控制儀與收集裝置之間;所述并聯(lián)或串聯(lián)裝置中各儲(chǔ)液池儲(chǔ)放不同溶液或相同溶液。
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