[實用新型]有利于減少正面柵線數(shù)目的異質(zhì)結(jié)電池有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420451967.7 | 申請日: | 2014-08-11 |
| 公開(公告)號: | CN204029820U | 公開(公告)日: | 2014-12-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭萬武;包健 | 申請(專利權(quán))人: | 常州天合光能有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/075 |
| 代理公司: | 常州市科誼專利代理事務(wù)所 32225 | 代理人: | 孫彬 |
| 地址: | 213022 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有利于 減少 正面 柵線數(shù) 目的 異質(zhì)結(jié) 電池 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種有利于減少正面柵線數(shù)目的異質(zhì)結(jié)電池,屬于太陽電池技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
目前,薄膜/晶體硅異質(zhì)結(jié)太陽電池的核心是感光面發(fā)射極的制作,發(fā)射極結(jié)構(gòu)直接決定了電池內(nèi)建場的分布和載流子輸運的效率。此外,異質(zhì)結(jié)電池正面柵線對入射光的遮擋損失一直是影響電池性能的關(guān)鍵因素,通常減少正面柵線有利于對入射光的吸收利用,然而不利于載流子的收集輸運,影響電池的整體性能。因此如何在不影響載流子輸運效率的前提下,減少感光面柵線數(shù)目將成為異質(zhì)結(jié)高效電池的研究方向。
實用新型內(nèi)容
本實用新型所要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種有利于減少正面柵線數(shù)目的異質(zhì)結(jié)電池,它不僅能夠改善電池內(nèi)建電場的分布,弱化載流子對摻雜層的依賴性,而且能夠弱化由于襯底的不均勻性導(dǎo)致的電池性能的下降,從而在不影響載流子輸運效率的前提心下,減少感光面柵線的數(shù)目。
為了解決上述技術(shù)問題后,本實用新型的技術(shù)方案是:一種有利于減少正面柵線數(shù)目的異質(zhì)結(jié)電池,它具有襯底、正面本征非晶硅薄膜層、摻雜層、透明導(dǎo)電薄膜層和金屬柵線層,正面本征非晶硅薄膜層沉積在襯底的正面上,摻雜層沉積在正面本征非晶硅薄膜層的上表面上,透明導(dǎo)電薄膜層沉積在摻雜層的上表面上,金屬柵線層設(shè)置在透明導(dǎo)電薄膜層的上表面上,其特征在于:所述的摻雜層包括呈交替橫向排列的重?fù)诫s區(qū)域和輕摻雜區(qū)域,并且輕摻雜區(qū)域的中部設(shè)置有發(fā)射極單元隔離層。
進(jìn)一步,本異質(zhì)結(jié)電池還具有背面本征非晶硅薄膜層、背面場、導(dǎo)電介質(zhì)層和銀漿層,背面本征非晶硅薄膜層沉積在襯底的背面上,背面場沉積在背面本征非晶硅薄膜層的下表面上,導(dǎo)電介質(zhì)層沉積在背面場的下表面上,銀漿層設(shè)置在導(dǎo)電介質(zhì)層的下表面上。
進(jìn)一步,所述的背面場為重?fù)诫s硅基薄膜,其導(dǎo)電類型與襯底的導(dǎo)電類型相同。
進(jìn)一步,所述的透明導(dǎo)電薄膜層采用PVD沉積法或MOCVD沉積法制備在摻雜層的上表面上。
進(jìn)一步,所述的重?fù)诫s區(qū)域和輕摻雜區(qū)域的導(dǎo)電類型均與襯底的導(dǎo)電類型相反。
進(jìn)一步,所述的重?fù)诫s區(qū)域和輕摻雜區(qū)域均采用PECVD沉積法沉積在正面本征非晶硅薄膜層的上表面上。
進(jìn)一步,所述的發(fā)射極單元隔離層采用激光劃線法設(shè)置在每個輕摻雜區(qū)域的中部。
本實用新型還提供了一種有利于減少正面柵線數(shù)目的異質(zhì)結(jié)電池的制備方法,它包含如下步驟:
(1)對襯底進(jìn)行表面處理;
(2)在襯底的正面生長正面本征非晶硅薄膜層;
(3)制備摻雜層:在正面本征非晶硅薄膜層上交替沉積出重?fù)诫s區(qū)域和輕摻雜區(qū)域作為異質(zhì)結(jié)電池的發(fā)射極,并在每個輕摻雜區(qū)域的中部制備出發(fā)射極單元隔離層使各發(fā)射極單元彼此獨立存在,處于橫向并聯(lián)模式;
(4)在摻雜層的上表面沉積透明導(dǎo)電薄膜層;
(5)在透明導(dǎo)電薄膜層的上表面制備金屬柵線層;
(6)后續(xù)處理,完成有利于減少正面柵線數(shù)目的異質(zhì)結(jié)電池的制備。
進(jìn)一步,在所述的步驟(1)和步驟(2)之間,還包含步驟:在襯底的背面沉積出背面本征非晶硅薄膜層,而后在背面本征非晶硅薄膜層的下表面上沉積出背面場;在所述的步驟(4)和步驟(5)之間,還包含步驟:在背面場的下表面上沉積出導(dǎo)電介質(zhì)層;在所述的步驟(5)中,并同時在導(dǎo)電介質(zhì)層的下表面上制備銀漿層。
進(jìn)一步,在所述的步驟(5)中,采用絲網(wǎng)印刷工藝制備金屬柵線層,并在金屬柵線層和銀漿層制備完畢后,在氮氣氛圍中烘干。
采用了上述技術(shù)方案后,作為發(fā)射極的摻雜層采用橫向梯度式高低摻雜,形成橫向濃度梯度高低異質(zhì)p-n結(jié)結(jié)構(gòu),這種橫向高低結(jié)改善了內(nèi)建場分布,有效提升了柵線所處位置的載流子輸運效率,弱化了載流子輸運對低摻雜區(qū)的依賴,進(jìn)而可以實現(xiàn)在減少柵線數(shù)目的前提下獲得較高的電流,為載流子輸運提供可控性“通道”,進(jìn)而減小了柵線對光的遮擋損失,提升了電池對光的吸收利用;正面發(fā)射極的摻雜層采用獨立單元結(jié)構(gòu),亦即在輕摻雜區(qū)域中間采用激光劃線技術(shù)使其彼此獨立存在,各單元發(fā)射極之間呈現(xiàn)并聯(lián)式結(jié)構(gòu),弱化了由于襯底硅片性能的不均勻性所導(dǎo)致的開壓降低及其電池性能下降,有效提升了工藝良率。
附圖說明
圖1為本實用新型的有利于減少正面柵線數(shù)目的異質(zhì)結(jié)電池的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實用新型的有利于減少正面柵線數(shù)目的異質(zhì)結(jié)電池的制備方法的流程示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型的內(nèi)容更容易被清楚地理解,下面根據(jù)具體實施例并結(jié)合附圖,對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





