[實(shí)用新型]一種真空直流磁控濺鍍膜機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420428583.3 | 申請(qǐng)日: | 2014-08-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN204080099U | 公開(公告)日: | 2015-01-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓建忠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江力都新材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 314416 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空 直流 磁控濺 鍍膜 | ||
1.一種真空直流磁控濺鍍膜機(jī),其特征在于:包括底座、支柱、鍍膜室、氣動(dòng)截止閥、質(zhì)量流量控制器、靶電機(jī)、寬量程電離規(guī)、氣動(dòng)光欄閥、氣動(dòng)充氣閥、高閥、熱偶規(guī)、油擴(kuò)散泵、維持閥、維持泵、冷卻水控制裝置、電機(jī)及減速裝置、加熱電爐、機(jī)械泵;所述機(jī)械泵設(shè)有機(jī)械泵進(jìn)氣口、進(jìn)氣濾網(wǎng)、進(jìn)氣管、排氣孔、排氣閥、轉(zhuǎn)子、彈簧、旋片、工作室、定子;所述鍍膜室設(shè)有靶電機(jī)、補(bǔ)氣管、室內(nèi)加熱裝置、真空管、轉(zhuǎn)架、襯板、圓柱靶;所述油擴(kuò)散泵設(shè)有油擴(kuò)散泵進(jìn)氣口、噴嘴、冷卻水管、導(dǎo)流管、泵體、加熱群、排氣口;所述機(jī)械泵進(jìn)氣口、排氣閥設(shè)于機(jī)械泵的頂端;所述進(jìn)氣管周圍包裹著進(jìn)氣濾網(wǎng);所述機(jī)械泵的抽真空極限為1.33×10-1Pa,泵軸轉(zhuǎn)速為450r/min,抽氣速率為2L/s;所述噴嘴、導(dǎo)流管設(shè)于油擴(kuò)散泵中央;所述加熱群設(shè)于油擴(kuò)散泵的底端;所述鍍膜室室體采用前開門、立式圓筒形鋼板結(jié)構(gòu),在鍍膜室內(nèi)及頂部中央均安裝3個(gè)圓柱形磁控旋靶為陰極,圓筒室壁接地為陽極;圓柱靶及鍍膜室構(gòu)成一個(gè)同軸圓柱形磁控濺射系統(tǒng)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





