[實用新型]一種濕法刻蝕機有效
| 申請號: | 201420420478.5 | 申請日: | 2014-07-28 |
| 公開(公告)號: | CN203967050U | 公開(公告)日: | 2014-11-26 |
| 發明(設計)人: | 李永洋;李建朋;吳成新;王月超;楊曉超 | 申請(專利權)人: | 天津英利新能源有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 羅滿 |
| 地址: | 301510 天津市濱海新區津漢公*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 濕法 刻蝕 | ||
1.一種濕法刻蝕機,包括刻蝕槽(1)及其蓋板(3)、清洗槽(2)及其蓋板(4);所述刻蝕槽(1)下側設有儲液罐(5),二者之間設有注液管道(6)和回流管道(7、8),所述儲液罐(5)內設有第一熱交換器(9);所述清洗槽(2)下側設有儲水罐(10),二者之間設有注水管道(11)和回水管道(12);其特征在于,所述濕法刻蝕機還包括冷卻所述儲水罐(10)內介質的冷卻裝置,所述冷卻裝置的預設溫度小于或等于所述第一熱交換器(9)的預設溫度。
2.如權利要求1所述的濕法刻蝕機,其特征在于,所述冷卻裝置為第二熱交換器(13),所述第二熱交換器(13)設于所述儲水罐(10)內。
3.如權利要求1所述的濕法刻蝕機,其特征在于,還包括冷卻罐,所述儲水罐(10)設有進水管和出水管,所述進水管和所述出水管均與所述冷卻罐連通;所述冷卻裝置為第二熱交換器(13),所述第二熱交換器(13)設于所述冷卻罐內。
4.如權利要求2或3所述的濕法刻蝕機,其特征在于,所述第一熱交換器(9)具有第一進水管和第一出水管,所述第二熱交換器(13)具有第二進水管和第二出水管;所述第一進水管和所述第二進水管均與冷水卻總管連通;所述第一出水管和所述第二出水管均與回水總管連通。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





