[實(shí)用新型]一種濕法刻蝕機(jī)及其刻蝕槽

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420420427.2
• 申請(qǐng)日: 2014-07-28
• 公開（公告）號(hào): CN203967049U
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳成新;李建朋;李永洋;王海濤;王月超;梁楠楠;康瑩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天津英利新能源有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L31/18
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 羅滿

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光伏技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種濕法刻蝕機(jī)及其刻蝕槽。

背景技術(shù)

光伏組件利用玻璃板、背板和EVA封裝電池片，電池片由硅片制成，是光伏組件的核心部件。

硅片由硅錠切割而成，然后經(jīng)過表面制絨、擴(kuò)散制結(jié)、刻蝕、沉積減反射膜、印刷燒結(jié)等工藝制成電池片。其中，刻蝕是電池片制造過程中的一個(gè)重要工序，目的是去除硅片下表面及四個(gè)側(cè)面的PN結(jié)，以達(dá)到上下表面絕緣的目的，同時(shí)去除下表面及四個(gè)側(cè)面的磷硅玻璃層。

常用的刻蝕方法是濕法刻蝕，通過化學(xué)試劑腐蝕掉硅片下表面及四個(gè)側(cè)面的PN結(jié)及磷硅玻璃層。請(qǐng)參考圖1和圖2，圖1為一種典型的濕法刻蝕機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為圖1中所述的濕法刻蝕機(jī)中刻蝕槽的具體結(jié)構(gòu)示意圖。

刻蝕槽1與清洗槽2相鄰，兩者上方分別設(shè)有蓋板3和蓋板4，刻蝕槽1下方設(shè)有儲(chǔ)液罐5，儲(chǔ)液罐5與刻蝕槽1之間設(shè)有注液管道6和用于藥液回流的回流管道7，儲(chǔ)液罐5內(nèi)設(shè)有熱交換器9，熱交換器9可以使儲(chǔ)液罐5中的藥液降溫至設(shè)定的溫度。清洗槽2的下方設(shè)有儲(chǔ)水罐10，儲(chǔ)水罐10與清洗槽2之間設(shè)有用于注水的注水管道11和用于回流的回水管道12。

如圖2所示，刻蝕槽1內(nèi)均勻分布多根滾輪101，各滾輪101相互平行，硅片在滾輪101上通過刻蝕槽1，通過時(shí)硅片背面接觸藥液，實(shí)現(xiàn)刻蝕，然后進(jìn)入清洗槽2清洗。刻蝕槽1通常分為三部分，中間為工藝槽102，兩端為溢流槽103，工藝槽102底部設(shè)有注液管道6，溢流槽103底部分別設(shè)有回流管道7。

刻蝕過程中，需要工藝槽102內(nèi)始終注滿藥液。藥液通過注液管道6源源不斷的注入工藝槽102，隨著工藝槽102內(nèi)液位的上升，藥液溢流到兩邊的溢流槽103內(nèi)，并通過溢流槽103底部的回流管道7流回儲(chǔ)液罐5，保障了工藝槽102內(nèi)不斷有新鮮的藥液補(bǔ)入，同時(shí)維持了工藝槽102內(nèi)液位的高度。

刻蝕過程中使用的藥液的揮發(fā)性較強(qiáng)，整個(gè)過程中，工藝槽102內(nèi)始終注滿藥液，藥液揮發(fā)較多，浪費(fèi)的藥液較多。目前，一種節(jié)省藥液的方式是，將藥液的濃度調(diào)節(jié)至最低臨界點(diǎn)，這樣雖然可以節(jié)省部分藥液，但是隨著工藝的進(jìn)行，藥液的濃度會(huì)逐漸降低，滿足不了工藝需求，會(huì)出現(xiàn)因藥液濃度較低引起的不合格產(chǎn)品。

因此，如何在不改變藥液濃度的情況下節(jié)省藥液，是本領(lǐng)域技術(shù)人員目前急需解決的技術(shù)問題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種濕法刻蝕機(jī)的刻蝕槽，該刻蝕槽能夠在不改變藥液濃度的情況下節(jié)省藥液。本實(shí)用新型的另一個(gè)目的是提供一種具有上述刻蝕槽的濕法刻蝕機(jī)。

為了實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，本實(shí)用新型提供了一種濕法刻蝕機(jī)的刻蝕槽，包括工藝槽和溢流槽，所述工藝槽底部設(shè)有注液管道，所述溢流槽底部設(shè)有回流管道；所述刻蝕槽內(nèi)分布多根滾輪，各所述滾輪平行；所述工藝槽的數(shù)量為至少兩個(gè)，各所述工藝槽之間設(shè)置至少一個(gè)所述溢流槽，所述刻蝕槽的兩端分別為所述溢流槽。

優(yōu)選地，各所述工藝槽之間設(shè)置一個(gè)所述溢流槽。

優(yōu)選地，所述工藝槽的寬度大于所述溢流槽的寬度。

優(yōu)選地，各所述工藝槽的寬度相等。

優(yōu)選地，各所述溢流槽的寬度相等。

本實(shí)用新型還提供了一種濕法刻蝕機(jī)，包括刻蝕槽和儲(chǔ)液罐，所述刻蝕槽和所述儲(chǔ)液罐之間設(shè)有注液管道和回流管道，所述刻蝕槽為上述任一項(xiàng)所述的刻蝕槽。

本實(shí)用新型提供的濕法刻蝕機(jī)的刻蝕槽，包括工藝槽和溢流槽，工藝槽底部設(shè)有注液管道，溢流槽底部設(shè)有回流管道；刻蝕槽內(nèi)分布多根滾輪，各滾輪平行；工藝槽的數(shù)量為至少兩個(gè)，各工藝槽之間設(shè)置至少一個(gè)溢流槽，刻蝕槽的兩端分別為溢流槽。

每個(gè)工藝槽兩端均設(shè)有溢流槽，刻蝕過程中，藥液通過注液管道源源不斷的注入工藝槽，注滿后藥液溢流到兩端的溢流槽，通過回流管道回流。硅片在滾輪上通過刻蝕槽時(shí)，將交替的通過溢流槽和工藝槽，硅片經(jīng)過工藝槽時(shí)，硅片接觸藥液進(jìn)行刻蝕反應(yīng)；硅片脫離工藝槽經(jīng)過溢流槽時(shí)，硅片上會(huì)沾有部分藥液，能夠繼續(xù)與所沾的藥液反應(yīng)，然后硅片將經(jīng)過下一個(gè)工藝槽，重復(fù)上述過程。硅片通過刻蝕槽時(shí)，一直不間斷的與藥液反應(yīng)，不會(huì)影響刻蝕的產(chǎn)品質(zhì)量。刻蝕槽內(nèi)的工藝槽與溢流槽間隔分布，與現(xiàn)有技術(shù)相比，減少了需要注滿藥液的體積，需要的藥液較少，同時(shí)也減少了藥液的揮發(fā)。該刻蝕槽可以在不改變藥液濃度，不影響產(chǎn)品質(zhì)量的前提下，降低藥液的消耗，提高藥液的利用率，從而降低產(chǎn)品的成本。

本實(shí)用新型還提供了一種濕法刻蝕機(jī)，具有上述刻蝕槽，由于刻蝕槽具有上述技術(shù)效果，故該濕法刻蝕機(jī)也具有相應(yīng)的技術(shù)效果。

附圖說明