[實用新型]高真空電弧泵及其抽氣機組

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420395632.8
• 申請日: 2014-07-17
• 公開（公告）號: CN204061092U
• 公開（公告）日: 2014-12-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 儲繼國
• 申請（專利權(quán)）人: 儲繼國
• 主分類號: F04B37/14
• 分類號: F04B37/14;C23C14/56
• 代理公司: 廣東國欣律師事務(wù)所 44221
• 代理人: 姜勝攀

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于真空獲得技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高真空電弧泵及其抽氣機組。

背景技術(shù)

專利201210170072.1（一種抽氣系統(tǒng)及工藝）

專利201310241954.7（真空爐抽氣系統(tǒng)及其抽氣工藝）

專利201310242244.6（蒸發(fā)鍍膜設(shè)備及其抽氣工藝）

專利201310241939.2（等離子體鍍膜設(shè)備及其抽氣工藝）

以上四件專利提出了一種利用弧光放電實現(xiàn)化學吸附抽氣的電弧泵（通常采用金屬鈦作吸附物質(zhì)），及其抽氣機組、抽氣工藝和典型應(yīng)用。該電弧鈦泵具有抽速大（容易獲得幾萬L/s大抽速），能耗低（約為傳統(tǒng)擴散泵的1/3），啟動迅速（幾秒~幾分鐘），無油蒸汽污染，顯著提高真空產(chǎn)品質(zhì)量等優(yōu)點。然而，該電弧鈦泵存在如下缺點：?

1.?壓強≤10-2?Pa區(qū)段，空間氣體分子的密度很低，電子與氣體分子發(fā)生碰撞、電離幾率很小，無法維持弧光放電。

2.?電弧鈦泵的鈦靶發(fā)出的部分電子會繞到鈦靶后側(cè)，流入固定電弧泵基座的泵殼面板上，泵殼面板上通常安裝多個電弧泵基座，因此，難以實現(xiàn)有效冷卻，導(dǎo)致產(chǎn)生局部升溫，釋放出大量解吸氣體，降低了電弧鈦泵的抽氣效率和極限真空。

3.?陰極靶接近耗盡時，若不及時更換新靶，電弧會燒穿電弧泵基座的冷卻水套，導(dǎo)致生產(chǎn)事故。

上述缺點，限制了電弧泵的推廣應(yīng)用。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種能拓展高真空運行范圍、提高極限真空、使用更可靠的高真空電弧泵。

本實用新型是這樣實現(xiàn)的，一種高真空電弧泵，包括泵殼和電源，所述泵殼上設(shè)有泵口，所述泵殼一側(cè)的可開合的面板上固設(shè)有基座，所述基座與所述面板絕緣，所述基座與所述電源負極電連接，所述基座內(nèi)側(cè)端與陰極靶固定連接，所述電源正極與所述泵殼電連接，所述泵殼內(nèi)還設(shè)有位于所述陰極靶和所述面板之間的金屬擋板，所述金屬擋板與周圍部件絕緣。

進一步地，所述陰極靶與基座之間設(shè)有材質(zhì)特征光譜與所述陰極靶的特征光譜相異的導(dǎo)熱薄層。

優(yōu)選地，所述導(dǎo)熱薄層的材料為鐵或銅，所述導(dǎo)熱薄層的厚度為0.5~2mm。

優(yōu)選地，所述陰極靶的材料為鈦。

進一步地，所述陰極靶中摻入有其它材料，所述其它材料為鎂、鋁、鋅、鈣或其中任意至少兩種的混合，所述其它材料在所述陰極靶中的重量百分比為0.5~80%。

本實用新型還提供了一種高真空電弧泵機組，包括真空室，所述真空室分別連接有粗抽泵、牽引分子泵以及如前所述的高真空電弧泵；

所述真空室通過第一真空閥與所述粗抽泵連接，所述真空室通過第二真空閥與所述牽引分子泵連接，所述牽引分子泵通過第三真空閥與前級泵連接，所述真空室依次經(jīng)擋塵板、第四真空閥與所述高真空電弧泵連接，所述真空室還分別連接有放氣閥和真空規(guī)。

本實用新型還提供了一種高真空電弧泵機組，包括真空室，所述真空室分別連接有粗抽泵、牽引分子泵以及如前所述的高真空電弧泵；

所述真空室通過第一真空閥與所述粗抽泵連接，所述真空室通過第二真空閥與所述牽引分子泵連接，所述牽引分子泵通過第三真空閥與前級泵連接，所述真空室依次經(jīng)第四真空閥、擋塵板與所述高真空電弧泵連接，所述真空室還分別連接有放氣閥和真空規(guī)。

本實用新型還提供了一種深冷高真空電弧泵機組，包括真空室，所述真空室分別連接有深冷泵、粗抽泵、牽引分子泵以及如前所述的高真空電弧泵；

所述真空室通過第一真空閥與所述粗抽泵連接，所述真空室直接或通過第二真空閥分別與所述深冷泵和牽引分子泵連接，所述牽引分子泵通過第三真空閥與前級泵連接，所述真空室經(jīng)擋塵板和第四真空閥與所述高真空電弧泵連接，所述真空室還分別連接有放氣閥和真空規(guī)。

本實用新型還提供了一種深冷電弧泵蒸發(fā)鍍膜機組，包括鍍膜室，所述鍍膜室分別連接有粗抽泵、牽引分子泵以及如前所述的高真空電弧泵；

所述鍍膜室通過第一真空閥與所述粗抽泵連接，所述鍍膜室通過第二真空閥分別與深冷泵和所述牽引分子泵連接，所述牽引分子泵通過第三真空閥與前級泵連接，所述鍍膜室依次經(jīng)擋塵板、第四真空閥與所述高真空電弧泵連接，所述鍍膜室還分別連接有放氣閥和真空規(guī)。

本實用新型的優(yōu)點如下：

（1）本實用新型提供的電弧泵極限真空高，高真空運行范圍比傳統(tǒng)電弧泵提高100倍以上。

（2）本實用新型提供的電弧泵運行可靠，能在陰極靶耗盡時，發(fā)出預(yù)警信號，避免電弧泵基座發(fā)生冷卻水套燒穿事故。