[實用新型]一種靶材組件

有效

• 申請號: 201420387187.0
• 申請日: 2014-07-14
• 公開（公告）號: CN204162777U
• 公開（公告）日: 2015-02-18
• 發明（設計）人: 李晨光
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲光科技有限公司;深圳歐菲光科技股份有限公司;蘇州歐菲光科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

技術領域

本實用新型涉磁控濺射技術領域，特別涉及一種靶材組件。

背景技術

磁控濺射是指在電場作用下電子與氬原子發生碰撞，并且電離出氬離子和新的電子，氬離子在電場加速運動撞擊陰極靶材，發生濺射。濺射粒子沉積在基底表面形成薄膜。磁場可以改變電子的運動方向，束縛并延長了電子運動的軌跡，使電子對氬離子的電離以及對靶材的撞擊更加有效。磁控濺射可以在低溫條件下進行，并且高速運動的粒子提高了濺射效率。

目前，用于磁控濺射矩形平面靶材鍍制薄膜過程中，通常會形成長圓形的蝕刻環路，該蝕刻環路包括中部的直線部及兩端的弧形部。在相同使用功率條件下，不同區域的磁場分布不均勻，例如，在靶材的中部磁場強度小于靶材兩端的磁場密度，從而使得蝕刻環路的弧形部的蝕刻深度遠大于直線部的蝕刻深度，導致當蝕刻環路的弧形部已經貫穿而需要更換靶材時，靶材的蝕刻環路的直線部仍遠未充分利用，從而降低了靶材使用效率，提高了生產成本。

實用新型內容

提供一種可使磁場分布均勻，從而提升靶材蝕刻均勻度的靶材組件。

一種靶材組件，包括靶材、導磁片、背板及承載板，所述靶材與承載板層疊設置于所述背板的兩側，所述承載板設有承載板頂面，所述導磁片設有導磁片頂面，所述導磁片的導磁片頂面與所述承載板的承載板頂面平齊，且所述導磁片頂面貼緊所述背板。

進一步的，所述承載板采用非導磁材料制成，所述導磁片采用高導磁性材料制成。

進一步的，所述承載板采用非導磁不銹鋼制成，所述導磁片采用稀土材料制成。

進一步的，所述矩形平面靶材包括設置于中部的平行區域及設置于平行區域端部且臨近所述靶材端部的弧形區域，所述導磁片對應所述矩形平面靶材的弧形區域設置。

進一步的，所述背板采用無氧銅背板或者鉬背板。

進一步的，所述靶材與背板之間設有連接層，所述連接層用于將所述靶材與背板相互連接。

進一步的，所述連接層銦金屬粘結層或銀金屬粘結層。

本實用新型的靶材組件于承載板中設置導磁片。進行磁控濺射時，通過增強導磁片處的導磁性，使磁場分布均勻，從而獲取適用的區域蝕刻效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本實用新型較佳實施方式提供的一種靶材組件在正視圖下的剖面示意圖；

圖2是本實用新型較佳實施方式提供的靶材組件的靶材的俯視圖；

圖3是本實用新型較佳實施方式提供的靶材組件的承載板及導磁片的俯視圖。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

請參閱圖1至圖3，本實用新型較佳實施方式提供一種靶材組件10，包括靶材11、導磁片13、背板15及承載板17。所述靶材11與承載板17層疊設置于所述背板15的兩側，所述導磁片13嵌于所述承載板17中。本實用新型的靶材11組件10放置于磁控濺射工藝腔室內陰極座表面，用于交流/直流磁控濺射工藝。

如圖2所示，在本實施例中，所述靶材11為矩形平面靶材，在磁控濺射鍍膜過程中，靶材11表面形成長圓形的蝕刻環路110。所述蝕刻環路110為封閉狀，其包括中部的直線部及直線部兩端且鄰近所述靶材11端部的弧形部。其中所述直線部的相應位置為矩形平面靶材11的平行區域111，所述弧形部的相應位置為矩形平面靶材11的弧形區域113。所述靶材11為一體成型或者是由多塊較小的子靶材拼接而成。

請一并參見圖3，所述導磁片13用于增強其設置位置處的導磁性。在本實施例中，所述導磁片13連接于所述承載板17并對應所述靶材11的弧形區域113設置。在本實施例中，所述導磁片13采用具有高導磁性材料制成，如稀土材料及所述稀土材料所制成的合金。