[實(shí)用新型]一種靶材組件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420387187.0 | 申請(qǐng)日： | 2014-07-14 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN204162777U | 公開(kāi)（公告）日： | 2015-02-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李晨光 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 南昌歐菲光科技有限公司;深圳歐菲光科技股份有限公司;蘇州歐菲光科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C23C14/35 | 分類(lèi)號(hào)： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 廣州三環(huán)專(zhuān)利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝傳鑫;熊永強(qiáng) |
| 地址： | 330013 江西省南昌*** | 國(guó)省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 組件 | ||
1.一種靶材組件，其特征在于：包括靶材、導(dǎo)磁片、背板及承載板，所述靶材與承載板層疊設(shè)置于所述背板的兩側(cè)，所述承載板設(shè)有承載板頂面，所述導(dǎo)磁片設(shè)有導(dǎo)磁片頂面，所述導(dǎo)磁片的導(dǎo)磁片頂面與所述承載板的承載板頂面平齊，且所述導(dǎo)磁片頂面貼緊所述背板。?
2.如權(quán)利要求1所述的靶材組件，其特征在于：所述承載板采用非導(dǎo)磁材料制成，所述導(dǎo)磁片采用高導(dǎo)磁性材料制成。?
3.如權(quán)利要求1所述的靶材組件，其特征在于：所述承載板采用非導(dǎo)磁不銹鋼制成，所述導(dǎo)磁片采用稀土材料制成。?
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的靶材組件，其特征在于：所述靶材為矩形平面靶材，所述矩形平面靶材包括設(shè)置于中部的平行區(qū)域及設(shè)置于平行區(qū)域端部且臨近所述靶材端部的弧形區(qū)域，所述導(dǎo)磁片對(duì)應(yīng)所述矩形平面靶材的弧形區(qū)域設(shè)置。?
5.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的靶材組件，其特征在于：所述背板采用無(wú)氧銅背板或者鉬背板。?
6.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的靶材組件，其特征在于：所述靶材與背板之間設(shè)有連接層，所述連接層用于將所述靶材與背板相互連接。?
7.如權(quán)利要求6所述的靶材組件，其特征在于：所述連接層銦金屬粘結(jié)層或銀金屬粘結(jié)層。?
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
