[實用新型]大氣壓下離子源裝置

有效

• 申請號: 201420387048.8
• 申請日: 2014-07-05
• 公開（公告）號: CN203941876U
• 公開（公告）日: 2014-11-12
• 發明（設計）人: 俞建成;聞路紅;林群英;王海星;趙鵬
• 申請（專利權）人: 寧波大學
• 主分類號: H01J49/04
• 分類號: H01J49/04;H01J49/00
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

技術領域

本實用新型涉及質譜分析，特別涉及大氣壓下離子源裝置。

背景技術

目前，在常規的電噴霧或APCI離子源中，為了防止溶劑的干擾，在設計離子流路的過程中，采用一定角度入射的方式，以避免溶劑過多的進入到質譜儀中。再有，為了提高靈敏度，加大真空接口部分的開孔面積。這種技術方案已定程度上解決了溶劑干擾和靈敏度低的問題，但隨之帶來較多不足，如：

1、離子是以一定角度進入質譜儀中，僅有少量離子進入質譜儀，離子進入率低；還有，難免會有一些溶劑進入質譜儀中；

2、真空接口部分開孔面積的增大，相應地需要提高真空系統的抽速，進而帶來了真空系統體積龐大等問題。

實用新型內容

為了解決上述現有技術方案中的不足，本實用新型提供了一種靈敏度高、溶劑干擾極小的大氣壓下離子源裝置，并有助于降低質譜分析系統的真空度要求、體積。

本實用新型的目的是通過以下技術方案實現的：

一種大氣壓下離子源裝置，所述離子源裝置包括離子源，其特征在于：所述離子源裝置進一步包括：

螺旋線圈，所述螺旋線圈設置在所述離子源的出射端的下游，螺旋線圈的軸線彎曲；

電流源，所述電流源設置所述螺旋線圈的頭端和尾端之間。

根據上述的離子源裝置，優選地，所述螺旋線圈的軸線彎曲90度。

根據上述的離子源裝置，優選地，所述螺旋線圈采用電阻絲繞成。

根據上述的離子源裝置，優選地，所述離子源是電噴霧源、APCI、DART。

根據上述的離子源裝置，優選地，所述螺旋線圈部分地繞在所述離子源的外圍。

與現有技術相比，本實用新型具有的有益效果為：

1、采用磁場的方法導引大氣壓下的離子，改變離子的無序運動軌跡，提升進入到質譜儀中的離子流量，提高了分析靈敏度；

2、可調的磁場設計：可以通過提升電流而增加磁場強度，從而消耗離子的徑向動能，使得放電的離子束趨于聚焦；

3、彎曲的螺旋線圈設置，使得不帶電的溶劑直線飛出線圈，而帶電的離子在磁場作用下彎曲飛行而進入到質譜分析系統中，僅有極少的溶劑會進入質譜分析系統，大大地降低了溶劑對系統的干擾；

4、無需增大真空接口部分開孔面積，降低系統的真空要求，即降低了質譜分析系統的體積。

附圖說明

參照附圖，本實用新型的公開內容將變得更易理解。本領域技術人員容易理解的是：這些附圖僅僅用于舉例說明本實用新型的技術方案，而并非意在對本實用新型的保護范圍構成限制。圖中：

圖1為本實用新型實施例1的大氣壓下離子源裝置的結構示意圖。

具體實施方式

圖1和以下說明描述了本實用新型的可選實施方式以教導本領域技術人員如何實施和再現本實用新型。為了教導本實用新型技術方案，已簡化或省略了一些常規方面。本領域技術人員應該理解源自這些實施方式的變型或替換將在本實用新型的范圍內。本領域技術人員應該理解下述特征能夠以各種方式組合以形成本實用新型的多個變型。由此，本實用新型并不局限于下述可選實施方式，而僅由權利要求和它們的等同物限定。

實施例1：

圖1示意性地給出了本實用新型實施例的大氣壓下離子源裝置的結構簡圖，如圖1所示，所述離子源裝置包括：

離子源11，如電噴霧源、APCI、DART等；

螺旋線圈21，所述螺旋線圈設置在所述離子源的出射端的下游，且處于質譜分析儀41的上游，螺旋線圈的軸線彎曲，如60度、90度；

電流源31，所述電流源設置所述螺旋線圈的頭端和尾端之間。

上述離子源裝置的工作方法，所述工作方法包括以下步驟：

(A1)離子源出射離子，溶劑伴隨著所述離子出射；

(A2)螺旋線圈通電后產生磁場，所述離子在螺旋線圈內發生偏轉，之后進入質譜分析儀41，而所述溶劑直線運動而飛出螺旋線圈。

實施例2：

根據本實用新型實施例1的大氣壓下離子源裝置及其工作方法在質譜分析系統中的應用例。

在該應用例中，采用電噴霧離子源，電阻絲繞成的螺旋線圈的軸線彎曲90度，電流源連接在線圈的頭端和尾端之間，且電流可調。線圈的部分繞在電噴霧離子源的外圍，且處于質譜分析系統的真空系統的上游。

本實用新型實施例的離子源裝置的工作過程，包括以下步驟：

電噴霧離子源出射離子，溶劑隨著離子一并射出；

離子在螺旋線圈產生的磁場中偏轉90度，進入到質譜分析系統中；而溶劑直線運行而飛出線圈；