[實用新型]大氣壓下離子源裝置有效
| 申請號： | 201420387048.8 | 申請日： | 2014-07-05 |
| 公開（公告）號： | CN203941876U | 公開（公告）日： | 2014-11-12 |
| 發明（設計）人： | 俞建成;聞路紅;林群英;王海星;趙鵬 | 申請（專利權）人： | 寧波大學 |
| 主分類號： | H01J49/04 | 分類號： | H01J49/04;H01J49/00 |
| 代理公司： | 無 | 代理人： | 無 |
| 地址： | 315211 *** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 大氣 壓下 離子源 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種大氣壓下離子源裝置，所述離子源裝置包括離子源，其特征在于：所述離子源裝置進一步包括：
螺旋線圈，所述螺旋線圈設置在所述離子源的出射端的下游，螺旋線圈的軸線彎曲；
電流源，所述電流源設置所述螺旋線圈的頭端和尾端之間。
2.根據權利要求1所述的離子源裝置，其特征在于：所述螺旋線圈的軸線彎曲90度。
3.根據權利要求1所述的離子源裝置，其特征在于：所述螺旋線圈采用電阻絲繞成。
4.根據權利要求1所述的離子源裝置，其特征在于：所述離子源是電噴霧源、APCI、DART。
5.根據權利要求1所述的離子源裝置，其特征在于：所述螺旋線圈部分地繞在所述離子源的外圍。
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