[實用新型]轉(zhuǎn)向器壓片打磨設(shè)備的打磨裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420379970.2 | 申請日： | 2014-07-10 |
| 公開（公告）號： | CN203967486U | 公開（公告）日： | 2014-11-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳汝 | 申請（專利權(quán)）人： | 湖州展瑞機電科技有限公司 |
| 主分類號： | H01R43/06 | 分類號： | H01R43/06 |
| 代理公司： | 杭州豐禾專利事務(wù)所有限公司 33214 | 代理人： | 王鵬舉 |
| 地址： | 313200 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 轉(zhuǎn)向器 壓片 打磨 設(shè)備 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.轉(zhuǎn)向器壓片打磨設(shè)備的打磨裝置，包括機架，其特征在于，所述的機架上設(shè)有拋光機滑塊，所述的拋光機滑塊上固定設(shè)有拋光機，所述的拋光機滑塊連有拋光氣缸，所述的機架上位于拋光機滑塊的前方處設(shè)有定位柱，所述的拋光機在拋光氣缸的帶動下可向定位柱靠近對位于定位柱上的轉(zhuǎn)向器進行拋光處理。
2.如權(quán)利要求1所述的轉(zhuǎn)向器壓片打磨設(shè)備的打磨裝置，其特征在于，所述的定位柱的底部連有定位氣缸，所述的定位柱在定位氣缸的帶動下可在機架上進行上下活動。
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