[實(shí)用新型]一種均勻布光的曝光機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420370583.2
• 申請日: 2014-07-07
• 公開（公告）號: CN203941382U
• 公開（公告）日: 2014-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王滿根
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波東盛集成電路元件有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200
• 代理人: 杜軍

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于加工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種金屬蝕刻片加工過程中的均勻布光的曝光機(jī)。

背景技術(shù)

金屬蝕刻片是將金屬片材經(jīng)化學(xué)浸濕后得到的帶有預(yù)定圖文的金屬結(jié)構(gòu)，其被廣泛的應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域以及用做外觀裝飾件。

現(xiàn)有的金屬蝕刻片加工方法，一般是通過在金屬片材上滾涂光膠，隨后通過帶有預(yù)設(shè)圖案的光罩進(jìn)行曝光使金屬片材上留下圖案化的光膠膜，隨后通過化學(xué)浸蝕，將金屬片材上沒有覆蓋光膠膜的部分腐蝕，留下的部分則形成金屬蝕刻片。

曝光過程的控制直接關(guān)系到最終獲得金屬蝕刻片的圖紋精度，現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行曝光時(shí)尤其是在采用多個(gè)發(fā)光部件同時(shí)工作時(shí)，可能由于部分發(fā)光部件老化，或者曝光區(qū)域與發(fā)光部件之間的距離發(fā)生不可控制的變化時(shí)，如因機(jī)件磨損出現(xiàn)的位移，則會(huì)導(dǎo)致光照強(qiáng)度不均勻，可能造成最終產(chǎn)品的缺陷。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有的金屬蝕刻片曝光技術(shù)存在的上述問題，本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案的主要目的是：提供一種可根據(jù)待曝光片材的實(shí)時(shí)環(huán)境調(diào)整發(fā)光部件的發(fā)光強(qiáng)度的均勻布光的曝光機(jī)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用了如下的技術(shù)方案：

一種均勻布光的曝光機(jī)，其中，包括：

曝光平臺，用以放置待曝光金屬片材；

復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光部件，通過支撐結(jié)構(gòu)均布于所述曝光平臺上方；

復(fù)數(shù)個(gè)光強(qiáng)傳感器，均布于所述曝光平臺上；

控制器，分別連接復(fù)數(shù)個(gè)光強(qiáng)傳感器及復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光部件，用以根據(jù)所述光強(qiáng)傳感器的感應(yīng)結(jié)果分別獨(dú)立的控制復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光部件的發(fā)光強(qiáng)度。

本實(shí)用新型的另一方面，所述光強(qiáng)傳感器的布設(shè)于待曝光金屬片材放置范圍內(nèi)，所述金屬片材上預(yù)制通孔使所述光強(qiáng)傳感器的傳感部露出。

本實(shí)用新型的另一方面，還包括傳送裝置，所述傳送裝置連接于所述曝光平臺上，所述待曝光金屬片材設(shè)置于所述傳送裝置上。

本實(shí)用新型的另一方面，所述傳送裝置包括復(fù)數(shù)個(gè)被連續(xù)傳送的框架，每片待曝光金屬片材設(shè)置于所述框架內(nèi)。

本實(shí)用新型的另一方面，包括一箱體，所述曝光平臺及所述發(fā)光部件設(shè)置于所述箱體內(nèi)，所述傳送裝置通過所述箱體上的一第一開口由所述箱體外將所述框架傳送入所述箱體內(nèi)，并通過所述箱體上的一第二開口由所述箱體內(nèi)傳送出所述箱體外。

本實(shí)用新型的另一方面，所述第一開口及所述第二開口處分別設(shè)置有可升降的阻隔板。?

通過對本實(shí)用新型技術(shù)方案的實(shí)施，可以獲得以下技術(shù)效果：

1，可根據(jù)待曝光金屬片材的光環(huán)境調(diào)整發(fā)光部件的發(fā)光強(qiáng)度；

2，光強(qiáng)傳感器的感光部通過待曝光金屬片材上的預(yù)制通孔進(jìn)行感應(yīng)，獲得的感應(yīng)結(jié)果更精確；

3，獨(dú)立的控制均布于曝光平臺上方的多個(gè)發(fā)光部件的發(fā)光強(qiáng)度，使多個(gè)發(fā)光部件發(fā)出的光均勻的照射曝光平臺。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型的光強(qiáng)傳感器組的分布結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型的裝置連接結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下通過具體的實(shí)施例對本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行說明，在與本實(shí)用新型的實(shí)用新型目的無沖突的前提下，下文中提到的實(shí)施例以及實(shí)施例中的技術(shù)特征可以相互組合。

如圖1-3所示，本實(shí)用新型提供一種均勻布光的曝光機(jī)，其中，包括：

一種均勻布光的曝光機(jī)，其中，包括：

曝光平臺1，用以放置待曝光金屬片材0；

復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光部件2，通過支撐結(jié)構(gòu)3均布于曝光平臺1的上方；

復(fù)數(shù)個(gè)光強(qiáng)傳感器4，均布于曝光平臺1上；

控制器5，分別連接復(fù)數(shù)個(gè)光強(qiáng)傳感器4及復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光部件2，用以根據(jù)光強(qiáng)傳感器4的感應(yīng)結(jié)果分別獨(dú)立的控制復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光部件2的發(fā)光強(qiáng)度。

上述技術(shù)方案中，光強(qiáng)傳感器4布設(shè)于曝光臺1上，使光強(qiáng)傳感器4的感應(yīng)結(jié)果更接近待曝光金屬片材0所處的光環(huán)境，從而令控制器5對發(fā)光部件2的發(fā)光強(qiáng)度的控制更精確。同時(shí)，控制器5獨(dú)立的控制均布于曝光平臺1上方的多個(gè)發(fā)光部件2的發(fā)光強(qiáng)度，使曝光平臺1上的光照強(qiáng)度更均勻。

本實(shí)用新型的一種實(shí)施例中，光強(qiáng)傳感器4的布設(shè)于待曝光金屬片材0放置范圍內(nèi)，待曝光金屬片材0上預(yù)制通孔01使光強(qiáng)傳感器4中的傳感部露出。

該技術(shù)方案中，由于光強(qiáng)傳感器4的傳感部通過待曝光金屬片材0上的預(yù)制通孔露出，使光強(qiáng)傳感器4的傳感部感應(yīng)到待曝光金屬片材0的光照強(qiáng)度，從而進(jìn)一步提高控制器5對發(fā)光部件2的發(fā)光強(qiáng)度的控制的精確性。