[實用新型]一種均勻布光的曝光機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420370583.2
• 申請日: 2014-07-07
• 公開（公告）號: CN203941382U
• 公開（公告）日: 2014-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王滿根
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波東盛集成電路元件有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 杜軍

1.?一種均勻布光的曝光機，用于金屬片材曝光，其特征在于，包括：

曝光平臺，用以放置待曝光金屬片材；

復數(shù)個發(fā)光部件，通過支撐結(jié)構(gòu)均布于所述曝光平臺上方；

復數(shù)個光強傳感器，均布于所述曝光平臺上；

控制器，分別連接復數(shù)個光強傳感器及復數(shù)個發(fā)光部件，用以根據(jù)所述光強傳感器的感應結(jié)果分別獨立的控制復數(shù)個發(fā)光部件的發(fā)光強度。

2.如權(quán)利要求1所述均勻布光的曝光機，其特征在于：所述光強傳感器的布設(shè)于待曝光金屬片材放置范圍內(nèi)，所述金屬片材上預制通孔使所述光強傳感器的傳感部露出。

3.如權(quán)利要求1所述均勻布光的曝光機，其特征在于：還包括傳送裝置，所述傳送裝置連接于所述曝光平臺上，所述待曝光金屬片材設(shè)置于所述傳送裝置上。

4.如權(quán)利要求3所述均勻布光的曝光機，其特征在于：所述傳送裝置包括復數(shù)個被連續(xù)傳送的框架，每片待曝光金屬片材設(shè)置于所述框架內(nèi)。

5.如權(quán)利要求4所述均勻布光的曝光機，其特征在于：還包括一箱體，所述曝光平臺及所述發(fā)光部件設(shè)置于所述箱體內(nèi)，所述傳送裝置通過所述箱體上的一第一開口由所述箱體外將所述框架傳送入所述箱體內(nèi)，并通過所述箱體上的一第二開口由所述箱體內(nèi)傳送出所述箱體外。

6.如權(quán)利要求5所述均勻布光的曝光機，其特征在于：所述第一開口及所述第二開口處分別設(shè)置有可升降的阻隔板。