[實(shí)用新型]用于清理MOCVD設(shè)備沉積物的清理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420363313.9 | 申請日： | 2014-07-01 |
| 公開（公告）號： | CN204039496U | 公開（公告）日： | 2014-12-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 焦建軍 | 申請（專利權(quán)）人： | 圓融光電科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/44 | 分類號： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人： | 劉芳 |
| 地址： | 243000 安徽省馬鞍山*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 清理 mocvd 設(shè)備 沉積物 裝置 | ||
1.一種用于清理MOCVD設(shè)備沉積物的清理裝置，其特征在于，包括：?
用于設(shè)置在MOCVD設(shè)備的反應(yīng)腔內(nèi)的吸塵主體，所述吸塵主體包括一用于容納沉積物的中空腔體，以及設(shè)置在所述腔體上的、用于驅(qū)動所述腔體在所述MOCVD設(shè)備的反應(yīng)腔內(nèi)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置；?
所述腔體的側(cè)壁上還設(shè)置有一用于將所述MOCVD設(shè)備的反應(yīng)腔底部的沉積物吸入到所述腔體內(nèi)的管體。?
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清理MOCVD設(shè)備沉積物的清理裝置，其特征在于，在所述吸塵主體的上壁上設(shè)置有至少一個的、用于去除所述MOCVD設(shè)備氣流蓋上的反應(yīng)附著物的除塵毛刷。?
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于清理MOCVD設(shè)備沉積物的清理裝置，其特征在于，所述腔體為圓柱體。?
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于清理MOCVD設(shè)備沉積物的清理裝置，其特征在于，所述管體為軟管。?
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
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- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
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