[實用新型]一種濺射鍍膜的靶材結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420351399.3
• 申請日: 2014-06-30
• 公開（公告）號: CN203976900U
• 公開（公告）日: 2014-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 閆都倫;王克斌;吳細標;王旻杰;唐貴民
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳新南亞技術(shù)開發(fā)有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

1.一種濺射鍍膜的靶材結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括一平板靶材，靶材底面設(shè)有若干排柱狀磁鐵，相鄰排的磁鐵極性互異，兩側(cè)的磁鐵頂部表面設(shè)有朝向中間的斜面，中間的磁鐵頂部兩側(cè)分別設(shè)有朝向兩側(cè)的斜面。

2.如權(quán)利要求1所述的濺射鍍膜的靶材結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述磁鐵共有三排。

3.如權(quán)利要求1所述的濺射鍍膜的靶材結(jié)構(gòu)，其特征在于，每排磁鐵的頂部截面形狀為三角形。

4.如權(quán)利要求3所述的濺射鍍膜的靶材結(jié)構(gòu)，其特征在于，兩側(cè)磁鐵的頂部截面形狀為直角三角形，中間磁鐵的頂部截面形狀為等腰三角形。

5.如權(quán)利要求4所述的濺射鍍膜的靶材結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述直角三角形斜邊與底面成30°角，所述等腰三角形為直角等腰三角形。