[實用新型]負(fù)壓控制裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420331881.0 | 申請日： | 2014-06-20 |
| 公開（公告）號： | CN204029768U | 公開（公告）日： | 2014-12-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 許鴻銘;姜智元;張木慶 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州均華精密機械有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67;H01L21/683 |
| 代理公司： | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103 | 代理人： | 馬明渡;徐丹 |
| 地址： | 215101 江蘇省蘇州市吳中區(qū)*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 控制 裝置 | ||
1.一種負(fù)壓控制裝置，其特征在于：其具有：?
一真空單元；
至少二第一閥，各第一閥系耦接該真空單元；
至少二第一工作區(qū)，各第一工作區(qū)系耦接各第一閥；
一第二閥，其系耦接所述真空單元；
一壓力控制器，其系耦接所述第二閥；以及
一第二工作區(qū)，其系耦接所述壓力控制器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述負(fù)壓控制裝置，其特征在于：?還具有一控制單元，該控制單元系分別耦接所述真空單元、所述第一閥、所述第二閥與所述壓力控制器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述負(fù)壓控制裝置，其特征在于：所述第一工作區(qū)或第二工作區(qū)為一模具、一上模、一下模、一載盤、一模腔或一吸取裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述負(fù)壓控制裝置，其特征在于：所述第一閥與第二閥為一真空電磁閥。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述負(fù)壓控制裝置，其特征在于：還具有至少一壓力表，各壓力表系分別耦接各第一閥與各第一工作區(qū)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述負(fù)壓控制裝置，其特征在于：還具有一壓力表，該壓力表系分別耦接所述壓力控制器與所述第二工作區(qū)。
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H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
